Gebraucht ZEISS CDC32 #9222612 zu verkaufen

ZEISS CDC32 ist eine Maskenerzeugungs- und Produktionsanlage für den lithographischen Prozess. Es basiert auf einer IBM-kompatiblen PC-Workstation und einem ZEISS SEM8900 Scan Electron Microscope (SEM). ZEISS CDC 32 vereint sowohl die fortschrittliche SEM-Technologie als auch eine softwarebasierte Einheit. Das SEM8900 ist ein Feldemissionsrasterelektronenmikroskop, das eine hochauflösende Abbildung ermöglicht und bei der Erstellung und Modifizierung von Photomasken verwendet wird. Es ist mit einer Vielzahl von Detektoren ausgestattet, einschließlich Sekundärelektronen und rückgestreuten Elektronendetektoren, um die Abbildung verschiedener Merkmale auf einer Probe zu ermöglichen. Die Software-basierte Maschine enthält eine grafische Benutzeroberfläche (GUI), die es dem Benutzer ermöglicht, Photomasken-Designs einfach zu erstellen und zu manipulieren, sowie eine Datenbank, um die resultierenden Designs zu speichern. CDC32 Tool verfügt über mehrere Funktionen, die ein effizientes Maskendesign ermöglichen. Erstens verfügt es über ein Merkmalsextraktionswerkzeug, das Merkmale an einer Probe identifizieren kann, die zu klein sind, um mit dem Auge oder mit herkömmlichen Photoemissionsbelichtungstechniken identifiziert zu werden. Es hat auch eine „turn key“ -Funktion, mit der Benutzer mehrere Bilder in die Datenbank hochladen können, ohne das Design manuell manipulieren zu müssen. Darüber hinaus ist das Asset mit einem z-Achsen-Scan ausgestattet, um ein dreidimensionales Bild bereitzustellen. CDC 32 Modell ist in der Lage, hochgenaue Masken für eine Vielzahl von Anwendungen zu erstellen. Es bietet eine Vielzahl von Designoptionen, wie Sechskantformen, fraktale Formen und mehr. Die Ausrüstung bietet auch eine Vielzahl von Designparametern, wie Größe, Position, Nuttiefe und Balkenstiftgröße. Darüber hinaus ermöglicht das softwarebasierte System die nachträgliche Änderung von Masken zum Hinzufügen, Ändern oder Löschen von Bildfunktionen. Schließlich stellt das Gerät Werkzeuge zur photolithographischen Prozesssteuerung zur Verfügung. Diese Werkzeuge umfassen Prozessparameter, wie Dosis und Belichtungszeit. Die Maschine ist auch in der Lage, Feedback auf den Lithographie-Prozess zu geben, um eine Optimierung der Prozesse zu ermöglichen. Zusammenfassend ist ZEISS CDC32 Tool ein leistungsstarkes und vielseitiges Tool zur Erzeugung und Produktion von Masken. Es basiert auf einem SEM8900 Scan-Elektronenmikroskop und softwarebasiertem Asset, das eine Vielzahl von Tools und Funktionen bietet, um ein effizientes Maskendesign und -manipulation zu ermöglichen. Es ist in der Lage, hochgenaue Masken für eine Vielzahl von Anwendungen zu erstellen und kann Feedback zum Lithographieprozess zur Prozessoptimierung geben.