Gebraucht ACCRETECH / TSK Win-Win 50-1600 #9353792 zu verkaufen

ACCRETECH / TSK Win-Win 50-1600
ID: 9353792
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Bright field inspection system, 12" 2005 vintage.
ACCRETECH/TSK Win-Win 50-1600 ist eine „Maske & Wafer Inspektion“ -Ausrüstung, die für die automatische Inspektion von geätzten Mustern auf Photomasken, Wafern und anderen Substraten entwickelt wurde. Bestehend aus einer Vielzahl fortschrittlicher optischer Technologien ermöglicht es eine hochauflösende, fehlerfreie Bildgebung und Auswertung. TSK Win-Win 50-1600 verwendet eine 4-Kanal-CCD-Kamera, um Bilder aus einer Vielzahl von Auflösungsstufen aufzunehmen. Es kann bis zu 2000 Bilder pro Sekunde erwerben, und sein Linsensystem bietet 0,3 Mikron Auflösung und 6x einstellbaren Zoom. Darüber hinaus bieten ein Infrarot (IR) -Laser und eine Hochleistungsoptik erstklassige Bildgebungsfunktionen. Weitere bemerkenswerte Merkmale sind: ein Laser Scanning Wafer Assist Tool (LASWAF); eine optionale Zeichenmaskenerkennungseinheit, die Fehler an A-Seiten oder B-Seiten von Masken erkennen und identifizieren kann; sowie eine eingebaute Ausrichteinheit und Datenverarbeitungswerkzeuge. Die Maschine eignet sich gut für die automatisierte, genaue und wiederholbare Fehlerinspektion und bietet eine schnelle Ergebnisdatenausgabe und eine zuverlässige Klassifizierung von Musterdaten. Die benutzerfreundliche Oberfläche erleichtert den Setup-Prozess, und das Tool ist in der Lage, High-End-Scan und Erkennung auch in komplexen Mustern. ACCRETECH Win-Win 50-1600 ist hochgradig anpassbar, da es mit einer Vielzahl von Softwarepaketen ausgestattet werden kann, darunter: WIN-Verity, die branchenführende Bildverarbeitungs- und Softwareplattform; VertexP2 Software, sein Echtzeit-Visualisierungs- und Analysepaket; und andere erweiterte Werkzeuge. Darüber hinaus kann es dank seiner eingebauten DIP-, CMAPI- und ECD-Berechnungsfunktionen sowohl für Fehleranalyseanwendungen als auch für messtechnische Anwendungen verwendet werden. Insgesamt ist Win-Win 50-1600 eine beeindruckende Masken- und Wafer-Inspektion, die den sich ständig ändernden Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Seine hochauflösende Bildgebung, kombiniert mit fortschrittlicher Optik, IR-Laser und einer Reihe von Softwarepaketen, geben ihm die Fähigkeit, Fehler aus einer Vielzahl von Mustern zu erkennen und zu identifizieren, was es zu einem unschätzbaren Werkzeug für Qualitätskontrollaufgaben macht.
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