Gebraucht ACCRETECH / TSK Win-Win 50 #9281217 zu verkaufen
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ACCRETECH/TSK Win-Win 50 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die in der Halbleiterproduktion eingesetzt wird und die die Inspektion von Substraten und Masken in hoher Auflösung mit einem weiten Sichtfeld ermöglicht. Das System verwendet eine direkt abbildende Projektionseinheit und eine optisch modifizierte Objektivlinse vom Typ Waffel, um ein klares oder „transparentes“ Bild der Probe ohne Verzerrung zu gewährleisten. TSK Win-Win 50 kann eine Vielzahl von Mustereigenschaften erkennen, wie feine Linienbreiten, Linienkanten, Schaltungsformen und Formen von gedruckten Schichtmustern sowie Oberflächenfehler. Darüber hinaus ist die Maschine mit einem fortschrittlichen, Hochgeschwindigkeits-Scanwerkzeug ausgestattet, das einen hohen Durchsatz unterstützt. Es ist in der Lage, schnell eine Vielzahl von Substraten und Masken mit einem Scanfeld von bis zu 24,6 x 17,9 mm zu erwerben. Es verfügt auch über ein hochauflösendes bildgebendes Element, um minutiöse Verarbeitungsfehler mit ausgezeichneter Bildqualität zu erkennen. Die Software von ACCRETECH WIN WIN 50 unterstützt die präzise Auswertung von Mustereigenschaften, Fehlern und Fehlerinformationen mit automatischen Bildanalyse-Algorithmen. Darüber hinaus kann das Modell sowohl manuelle als auch automatische Operationen für verschiedene Substratmaterialien wie Glas, Silizium, Metall und Kristalle unterstützen. WIN WIN 50 ist ideal für eine breite Palette von Anwendungen in der Halbleiterproduktion, einschließlich Oberflächeninspektion, LCD-Maske-bezogene Fehlerinspektion, Musterinspektion und Drahtbrettermusterprüfung. Es ist auch mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, und seine einfach zu bedienenden Bedienungs- und Wartungsfunktionen ermöglichen eine effiziente Masken- und Waferinspektion. Zusammenfassend ist ACCRETECH Win-Win 50 eine innovative und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Seine direkte Bildgebung Projektionssystem und fortschrittliche, High-Speed-Scan-Fähigkeit bieten ausgezeichnete Bildqualität und Leistung für eine Vielzahl von Substratmaterialien. Darüber hinaus eignen sich die vielseitige Software und die intuitive Benutzeroberfläche für eine Vielzahl von Halbleiterproduktionsanwendungen.
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