Gebraucht ADE / KLA / TENCOR 351 #293605066 zu verkaufen

ADE/KLA/TENCOR 351 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochentwickeltes optisches Inspektionssystem zur Untersuchung von Wafern und Masken auf Defekte, Kontaminationen oder Prozessvariationen. Entwickelt von ADE, ADE 351 Einheit ist ein leistungsfähiges Werkzeug für Halbleiterhersteller, um Produktqualität und Konsistenz ihres Mikrochip-Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Die Maschine verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher Bildgebung, Hochgeschwindigkeits-Mustererkennung und ausgeklügelten Fehlerklassifizierungsalgorithmen, um ganze Waferbereiche oder Unterfelder höherer Auflösung zu analysieren, um eventuell vorhandene Fehler zu identifizieren. Es verwendet ein automatisiertes, geschlossenes Werkzeug, um Muster und Bilder in hoher Auflösung, bis zu 20X1200 mag, über die gesamte Oberfläche eines Wafers zu überprüfen. Fortgeschrittene Bildverarbeitung wird verwendet, um Partikel, Kratzer, Musterunterbrechungen und andere physikalische Defekte sowie Prozessvariationen zu erkennen. Der Wafer wird dann automatisch gescannt und die Fehler und Muster identifiziert, bevor sie dem Bediener präsentiert werden. Mit automatischen Sicht- und Mustererkennungsfunktionen kann KLA 351 Asset dicht gepackte Boards inspizieren, falsche Positives minimieren und den Durchsatz und Ertrag optimieren. Die automatische Farbauswahl gewährleistet höchste Präzision und Genauigkeit für die komplexesten Masken. Das Modell unterstützt auch die Überprüfung und Validierung aller kontrollierten Parameter auf Maskenebene vor dem Versand. Für die hochsensiblen Bedürfnisse von Halbleiterherstellern unterstützt TENCOR 351 Geräte auch ein fortschrittliches Verschmutzungsüberwachungsmodul, um den Bediener zu erkennen und sofort auf Ausreißer aufmerksam zu machen. Dies wiederum hilft, mögliche Kontaminationsprobleme zu erkennen, sobald sie erkannt werden, und stellt sicher, dass Korrekturmaßnahmen rechtzeitig ergriffen werden können. Zusätzlich übersteigt die Auflösung der Kamera 1 Mikron, was zu beispielloser Klarheit führt. 351 System bietet eine breite Palette von Fehlererkennungsfunktionen, einschließlich Fehlercharakteristiken und Fehlergröße Scans. Die gestufte Overhead-Scan-Architektur bietet konstant hochauflösende Bilder, die die schnelle Identifizierung von Oberflächenfehlern ermöglichen, die sonst schwer zu erkennen wären. Die eingebaute Fehlerbibliothek ermöglicht es dem Gerät, Fehlermuster schnell zu identifizieren und beim Auffinden zu kennzeichnen. ADE/KLA/TENCOR 351 Mask & Wafer Inspection Machine bietet ein vielseitiges, robustes und zuverlässiges Werkzeug für Halbleiterhersteller, das sicherstellt, dass ihr Prozess die höchste Qualität und Ausbeute liefert. Entwickelt für hohen Durchsatz und niedrige Kosten, liefert ADE 351 außergewöhnliche Qualitätsdaten, die für die Prozessoptimierung und verbesserte Produktausbeuten verwendet werden können.