Gebraucht ADE / KLA / TENCOR CR-83 #9115144 zu verkaufen

ADE/KLA/TENCOR CR-83 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die moderne Halbleiterherstellung. Es ist ein modulares und skalierbares System mit außergewöhnlicher Flexibilität und Skalierbarkeit, das High-End-Optik, Hochgeschwindigkeitsbildgebung und fortschrittliche Messtechnik kombiniert, um eine erstklassige Fehlererkennung zu ermöglichen. ADE CR-83 wurde entwickelt, um eine breite Palette komplexer Substrate zu inspizieren, einschließlich Photomaske, Retikel und Wafer, einschließlich beliebiger Muster und Design-Layouts. Das Gerät ist auch in der Lage, exponierte Siliziumscheiben auf kleine Partikeldefekte wie Partikel, Hohlräume, Randprellungen und Hügellösungen zu untersuchen. KLA CR-83 besteht aus einer optischen Konfiguration, einem 2dimensionalen Detektorarray und verschiedenen Abtaststufen. Die Optik ist so konzipiert, dass sie einen vollen Bereich von Beleuchtungswellenlängenbereichen aufnimmt, vom sichtbaren bis zum ultravioletten Spektrum. Zusätzlich kann der Arbeitsabstand eingestellt werden, um die Vergrößerung des zu prüfenden Musters zu maximieren. Das Detektorarray besteht aus zwei hochauflösenden Festkörper-Videokameras und einem Laserinterferometer. Dieses Detektorarray ist für schnelle, genaue und dreidimensionale Messungen ausgelegt. Die Maschine enthält auch eine Probendrehstufe, mit der Proben in verschiedenen Winkeln untersucht werden können. Darüber hinaus kann der Probentisch auf unterschiedliche Höhen eingestellt werden, wobei verschiedene Arten von Substraten untergebracht werden. Zur präzisen Steuerung und automatischen Inspektion kann das Werkzeug auch mit Autofokussierungssystemen und automatischen Ausrichtungssystemen integriert werden. Darüber hinaus bietet TENCOR CR-83 einen einzigartigen Satz von Bildverarbeitungstools, um Fehler für eine schnelle Analyse zu lokalisieren und zu priorisieren. Diese Werkzeuge basieren auf einer Mischung aus Mustererkennungsalgorithmen, optischer Verarbeitung, Schwellwertbildung und Bildvergleich. Dies bietet dem Anwender die Möglichkeit, kritische Fehler für die weitere Analyse zu priorisieren. CR-83 ist auch mit fortschrittlichen messtechnischen Funktionen ausgestattet, die eine detaillierte Charakterisierung von Defekten ermöglichen. Dazu gehören die Verwendung von Röntgen- und Elektronenmikroskopie, chemisches Ätzen und Atomkraftmikroskopie, um Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. ADE/KLA/TENCOR CR-83 ist eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterherstellung und bietet ausgezeichnete Genauigkeit, Skalierbarkeit und Flexibilität. Mit seiner breiten Palette von Funktionen und Fähigkeiten kann die Anlage hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektion durchführen und Fehler schnell identifizieren und die höchste Qualitätssicherung für die Halbleiterherstellung bieten.