Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Compass Pro 300 #9220617 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Compass Pro 300 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochpräzises, berührungsloses System, das eine schnelle, genaue, wiederholbare und kostengünstige Analyse von Masken- und Waferoberflächen ermöglicht. Das Gerät liefert detaillierte Informationen sowohl über die Vorder- als auch über die Rückseite einer Maske oder eines Wafers, was hohe Erträge und eine effiziente Prozesskontrolle ermöglicht. Die Maschine besteht aus einer motorisierten x-y Abtaststufe, einem digitalen Abbildungsdetektor und einem integrierten optischen Werkzeug, die zusammenarbeiten, um eine optimale Inspektionsauflösung und einen optimalen Durchsatz zu erreichen. Die Abtaststufe wird von einem Präzisionsschrittmotor angetrieben, der eine außergewöhnliche Genauigkeit und geringe Schrittweite für die detaillierte Analyse von Oberflächenmerkmalen bietet. Der digitale Abbildungsdetektor liefert hochauflösende Bilder und ermöglicht die Auswahl und den Vergleich verschiedener Bereiche einer Maske oder eines Wafers zur weiteren Korrelation mit anderen Analysetechniken. Es verfügt auch über leistungsstarke Kalibrier- und Ausrichtungsfunktionen. Die integrierte Optik sorgt dafür, dass die Lichtquelle zur vollständigen Bildaufnahme schnell und präzise erfasst, transportiert und an den bildgebenden Detektor geliefert wird. Neben der detaillierten Oberflächenanalyse bietet das Modell auch die KEs und die Fehlererkennung. Es hat fortschrittliche Algorithmen zur Erkennung von Musterverzerrungen, Defekten, Verunreinigungen und anderen Merkmalen von Interesse. Es enthält auch eine Verzögerungslichtquelle, um die Leistung bei höheren Durchsätzen zu verbessern. AMAT Compass Pro 300 Mask & Wafer Inspection ist ein leistungsstarkes Werkzeug für umfassende Masken- und Waferanalyse. Es hilft, hohe Erträge zu erzielen und ermöglicht es Benutzern, der Konkurrenz voraus zu bleiben. Seine Genauigkeit und Wiederholbarkeit machen es zur perfekten Wahl für die Qualitätskontrolle in fortschrittlichen Lithographie- und Halbleiterprozessen.