Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 2T #9266645 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 2T Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Inspektionssystem, das von Halbleiterherstellern zur Inspektion von Masken und Wafern verwendet wird. Das Gerät verwendet eine Kombination aus Brightfield und Darkfield-Optik, um Fehler in beiden Ausrichtungs- und Belichtungsparametern zu erkennen. AMAT Complus 2T verfügt über eine große Geschwindigkeitsfähigkeit, scannt bis zu 4000 Wafer pro Stunde und bietet eine hohe Auflösung von bis zu 500X, sodass Benutzer eine schnelle, genaue Fehler- und Bildanalyse bereitstellen können. Die Maschine verwendet hochauflösende Bildsensoren und Echtzeit-Autofokussysteme, um Bilder von 1 Mikron und weniger Größe zu erfassen, wodurch Benutzer Fehler und Dimensionsvarianzen in ihren Produkten schnell erkennen können. Die Software bietet verschiedene Funktionen, wie Bildnähte und Zoomen, damit Benutzer Fehler genauer analysieren können. APPLIED MATERIALS Complus 2T beinhaltet auch die Steuerung der Beleuchtungsintensität, wodurch der Anwender die Intensität des Lichts einstellen kann, um eine optimale Bildklarheit zu erreichen. Complete 2T kann Fehler erkennen, die durch Ausrichtungs- und Belichtungsfehler verursacht werden, indem seine erweiterten Kantenerkennungsalgorithmen verwendet werden. Diese Algorithmen können verschiedene lokalisierte und globale Fehler erkennen, so dass Benutzer Fehler erkennen können, die nicht leicht sichtbar sind. Das Tool kann sowohl mit Masken- als auch mit Wafer-Produkten verwendet werden und kann sowohl Wafer-Level als auch Single-Die-Inspektionen durchführen, um Anwendern zu helfen, versteckte Fehler vor der Produktion des fertigen Produkts zu finden. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 2T bietet auch eine Reihe von Optionen für die Datenanalyse. Anwender können Bilder und Daten zur weiteren Analyse einfach in eine Vielzahl externer Softwarepakete exportieren und so den gesamten Prozess beschleunigen. Das Asset ist auch in der Lage, Daten zu sortieren, zu überprüfen und zu analysieren, so dass Benutzer bestimmte Fehlerquellen schnell ermitteln und Korrekturmaßnahmen einrichten können. AMAT Complus 2T ist ein fortschrittliches Werkzeug für die Inspektion von Masken und Wafern und kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Defekten im Nanometermaßstab zu erkennen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, der Hochgeschwindigkeitsbearbeitung und den vielseitigen Datenanalysefunktionen ist APPLIED MATERIALS Complus 2T zu einem wichtigen Werkzeug für Hersteller fortschrittlicher elektronischer Komponenten geworden.