Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 3T #9280959 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine optische Inspektionstechnologie verwendet, um mögliche Gerätedefekte zu identifizieren. Dieses System ist in der Lage, eine Vielzahl von Maskenmustern zu überprüfen, einschließlich optischer Retikel, Masken und Wafer, und es kann Fehler wie fehlende Speicherelemente, doppelseitige Musterdefekte, fehlerhafte Ausrichtung oder orientierungsbedingte Fehler und fehlerhafte Musterdefekte erkennen. AMAT Complus 3T Einheit basiert auf einer spezialisierten Technologie der Amplitudenmodulation, die Symmetrie zwischen einem separaten Objekt und seinem Hintergrund erzeugt. Die Amplitudenmodulationstechnologie ist hochempfindlich und ermöglicht es der Maschine, die minimalen Unterschiede zwischen doppelten Objekten und ihren entsprechenden Defekten genau zu identifizieren. Dieses Tool verwendet einen fokussierten Ionenstrahl, um eine schmale Linienführung zu zeichnen, mit der das Asset Objekte für Abweichungen vergleichen kann. Das fortschrittliche optische Inspektionsmodell ist mit fortschrittlichen Algorithmen ausgestattet, um Fehler zu identifizieren. Diese Algorithmen umfassen Bildaufnahme und -verarbeitung, Bildvergleich und Fehlerklassifizierung. Die Bildaufnahme- und -verarbeitungsalgorithmen verwenden die CCD-Technologie, um Bilder mit moderater Auflösung der Objekte zu erfassen und zu speichern. Die Vergleichsalgorithmen verwenden digitale Verarbeitung, um diese Bilder zu vergleichen und eine quantitative Bewertung der Genauigkeit des Objekts zu liefern. Schließlich verweisen die Fehlerklassifizierungsalgorithmen diese Bilder auf einen Satz vordefinierter Parameter, wie Spezifikationen und Toleranzen, um festzustellen, ob ein bestimmtes Objekt defekt ist. Neben der fortschrittlichen optischen Inspektionstechnologie ist das Equipment APPLIED MATERIALS Complus 3T mit fortschrittlichen Hardwarekomponenten ausgestattet. Solche Komponenten umfassen eine Rasterelektronenmikroskopstufe, eine Waferstufe und verschiedene kritische Komponenten für den Betrieb des Systems. Die Rasterelektronenmikroskopstufe ist mit der Fähigkeit ausgestattet, hochauflösende Bilder von Wafern zu erfassen, wodurch der Benutzer mehrere Bereiche der Masken und Wafer gleichzeitig inspizieren kann. Die Waferstufe ermöglicht die Bewegung des Wafers, so dass jedes Segment des Objekts bei Bedarf überprüft werden kann, ohne das gesamte Objekt bewegen zu müssen. Das Complus 3T Gerät verfügt neben seiner fortschrittlichen Ausstattung über Softwaresteuerungen und benutzerfreundliche Übersetzungs- und Transferschnittstellen. Diese Schnittstellen ermöglichen die Bildaufnahme und den Vergleich in jeder Sprache, so dass die Maschine vielfältige Kunden bedienen kann. Darüber hinaus verfügt die Software über eine benutzerfreundliche grafische 3D-Oberfläche, die eine schnelle Fehlererkennung und genaue Messungen ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T Werkzeug ist hocheffizient und kostengünstig, so dass es die perfekte Wahl für Maske und Wafer Inspektion. Mit seiner fortschrittlichen optischen Inspektionstechnologie, spezialisierten Algorithmen, fortschrittlichen Hardwarekomponenten, Softwareprogrammen und benutzerfreundlichen Übersetzungs- und Transferschnittstellen ist AMAT Complus 3T ein ideales Werkzeug für die Qualitätssicherung und genaue Analyse von Masken- und Waferkomponenten.