Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 3T #9410557 zu verkaufen

ID: 9410557
Weinlese: 2007
Darkfield inspection system 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T ist eine vielseitige Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung. Dieses System soll Herstellern helfen, ihren Produktionszyklus und Ertrag zu verbessern. Das Gerät nutzt eine einzigartige Kombination aus Optik und automatisierter Inspektion, um Musterfehler und Waferfunktionen zu erkennen. AMAT Complus 3T hat ein großes Sichtfeld, mit einer 4-Zoll-Waferstufe, die eine vollständige Waferinspektion ermöglicht. Die Maschine verfügt auch über hochmoderne Bildverarbeitungs- und Fehlererkennungsalgorithmen, die schnelle, genaue Ergebnisse liefern. Das Werkzeug ist auch mit einem Laser-Interferometer zur beweglichen Bühnenmessung und Fehlerortsgenauigkeit ausgestattet. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS Complus 3T über integrierte automatisierte Fehlerüberprüfungsfunktionen, die Fehlerbereiche schnell lokalisieren und markieren können, um weitere Überprüfungen durchzuführen. Für verschiedene Schichten und Substrattypen steht eine umfassende Palette von bildgebenden Techniken zur Verfügung, um die morphologischen Eigenschaften von Defekten zu ermitteln. Dies ermöglicht eine schnellere und genauere Fehlerüberprüfung, um bessere Ertragsraten und eine verbesserte Produktionszykluszeit zu gewährleisten. Complus 3T kann auch Partikel und andere Oberflächenverunreinigungen auf Wafer und Maske gleichermaßen messen. Die Anlage kann Verunreinigungen auf einer Vielzahl von Ebenen von 5 nm bis 200 Mikron erkennen, um Herstellern zu helfen, eine saubere Produktionsumgebung zu erhalten. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T auch über ein Wafer- und Produktverfolgungsmodell. Dieses Gerät verfolgt Wafer- und Produktinformationen und -ergebnisse, um einen einfachen Datenabruf zu ermöglichen. Das macht AMAT Complus 3T zu einem effizienten System für die Fertigungseffizienz. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Complus 3T ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Die Kombination aus Optik und bildgebenden Technologien der neuesten Generation sowie das benutzerfreundliche Design machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Waferbearbeitungs- und Inspektionsanwendungen. Die integrierten Nachverfolgungs- und Fehlerüberprüfungsfunktionen helfen auch Herstellern, hohe Produktionszykluszeiten beizubehalten und die Effizienz zu verbessern.
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