Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9276171 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein vielseitiges automatisiertes System, das speziell für die Inspektion und Messtechnik von Photomasken und Wafersubstraten entwickelt wurde. Das Gerät fungiert als Kombination aus Prozessschritten einschließlich Fehlerüberprüfung, automatischer Mustererkennung und Klassifizierung und Korrektur von automatisch erkannten Fehlern. Die intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht eine effiziente Inspektion von Photomasken-Substraten von bis zu 1,0 µm bis zu 50 µm. AMAT Complus 4T Maske und Wafer Inspektion Maschine ist in der Lage, eine breite Palette von Defekten wie Linienbreiten, Ecken, Lücken und Linienbreite Variation zu erkennen und zu isolieren. Darüber hinaus bietet das Tool eine umfassende Prozesssteuerung durch einstellbare Intensitätseinstellungen, Koordinaten, Mikroskopeinstellungen, Scanfrequenz und Scangeschwindigkeit. Mit diesen Einstellungen kann das Asset sowohl isolierte Fehler als auch komplexe Fehler wie Zeilenendasymmetrie, Überätzungen und leere Bereiche erkennen und analysieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Complete 4T Maske und Wafer Inspektionsmodell verwendet eine automatisierte Stufe, die verwendet wird, um den Wafer und Photomasken-Substrat für maximale Genauigkeit in der Abtastung genau zu positionieren. Diese Stufe ist mit einer integrierten Objektivlinse mit einem Vergrößerungsbereich von 10x - 60x gekoppelt, die eine Inspektion verschiedener Funktionsgrößen ermöglicht. Das Gerät verfügt über ein Kalibriersystem zur Aufrechterhaltung der Genauigkeit der Scaneinstellungen, das es dem Gerät ermöglicht, die Genauigkeit innerhalb von 0,05 µm über wiederholte Zyklen aufrechtzuerhalten. Zusätzlich zu seinen Produktionskapazitäten unterstützt Complus 4T Mask und Wafer Inspection Maschine eine breite Palette von Fehlerüberprüfungsoptionen. Dies beinhaltet eine Vielzahl von Bilderfassungsmodi zur Inspektion von Filmstruktur und Fehlertopologiedaten. Das Tool verfügt auch über eine ausgeklügelte automatische Fehlerüberprüfung Asset, das schnell analysieren und sortieren Fehler basierend auf voreingestellten Schwellen. Zur zusätzlichen Fehlerklassifizierung und Datenanalyse steht auch ein optionaler Fehleranalysator zur Verfügung. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask und Wafer Inspection Modell bietet eine niedrige TCO mit kostengünstigen Lösungen für Maske und Wafer Inspektion. Diese Ausrüstung ist in der Lage, hohe Prüfgenauigkeit mit einem wiederholbaren, zuverlässigen und benutzerfreundlichen Betrieb zur Verfügung zu stellen. All dies ermöglicht es Benutzern, sowohl Masken- als auch Wafer-Inspektionen mit einem integrierten System durchzuführen.