Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9298594 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein vielseitiges und kompaktes System, das die Aufgaben der Masken- und Wafer-Inspektion effizient kombiniert. Diese Einheit ist speziell auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zugeschnitten und bietet einen hohen Durchsatz und Kosteneffizienz sowie eine unübertroffene Bildauflösung. Es bietet eine Reihe integrierter Technologien für die Masken- und Waferinspektion sowie für die Überprüfung und Datenanalyse. AMAT Complus 4T bietet erweiterte Maskeninspektionsmöglichkeiten, einschließlich der Auflösungsverbesserungstechnologie (RET) und der optischen Streuung (OS). RET ist eine Technologie, die verwendet wird, um die Auswirkungen der Beugung auf Maskenmuster zu messen, während OS die Verzerrung von Sekundärelektronen misst, die durch Merkmale in einem Maskenmuster verursacht werden. Diese beiden Technologien ermöglichen es APPLIED MATERIALS Complus 4T, hohe Deckkraft und Schärfe in Maskenbildern zu erreichen, indem sie einen Detailgrad bieten, der konkurrierende Inspektionssysteme übertrifft. Für die Waferinspektion bietet Complus 4T eine Reihe innovativer Werkzeuge, darunter projizierte Feldinspektion (PFI) und Farbbildanalyse (CIA). PFI ist eine kostengünstige, schnelle Methode zur Inspektion von kompatiblen Photomasken. Es bietet detaillierte Messungen einer Vielzahl von Funktionen und verwendet mehrere Algorithmen, um Bilder aus mehreren Feldern zu vergleichen. CIA kombiniert optische Streuung (OS) mit digitaler Bildverarbeitung (DIP), um eine hochauflösende Abbildung beliebiger Muster auf einem Wafer zu ermöglichen. Es ermöglicht auch die Detektion von optischen Verunreinigungen, die einen zuverlässigen Nachweis von Partikeln oder Partikeln für eine ertragreiche Produktion ermöglichen. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T bietet auch zuverlässige Prüfwerkzeuge, einschließlich des APD-Moduls (Automated Pattern Detection). Das APD-Modul erkennt automatisch kritische Fehler an Masken- und Waferbildern und liefert hochpräzise Messungen. Besonders zweckmäßig ist die Erkennung von Merkmalen, die gängige Inspektionsmethoden verfehlen können, wie z.B. schwer zu charakterisierende Zeilenumbrüche und Kanten. Schließlich kommt die Maschine auch mit umfassender Software für Datenanalyse und Reporting. Dazu gehört eine integrierte Exporteinrichtung, mit der Kunden Berichte an andere Systeme oder an andere Mail-Clients senden können. Zusammenfassend bietet das AMAT Complus 4T Mask and Wafer Inspection Tool eine unübertroffene Bildauflösung und eine Reihe integrierter Technologien für die Masken- und Waferinspektion sowie für die Überprüfung und Datenanalyse. Diese Ressource stellt sicher, dass die Herstellungsprozesse der Kunden den regulatorischen Standards mit einem beispiellosen Maß an Detailtreue und Genauigkeit entsprechen, was sie zu einem unverzichtbaren Werkzeug für eine kostengünstige Halbleiterproduktion macht.