Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Complus MP #293769355 zu verkaufen

AMAT Complus Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das Gerät verfügt über eine Vielzahl von optischen und nicht-optischen Technologien, um einen umfassenden Überblick über Gerätefehler und -merkmale zu bieten und eine verbesserte Prozesssteuerung und Geräteausbeute zu ermöglichen. Die Maschine verfügt über ein integriertes Masken- und Wafer-Inspektionsmodul, das ein optisches Mikroskop, eine automatisierte Waferanalyse, CAD-Compare und Röntgenbilder umfasst. Das optische Mikroskop ist ein hochauflösendes Hochleistungsbildaufbereitungswerkzeug, das Masken und Oblaten gleichzeitig untersuchen kann, eine eingehende Ansicht von allen Geräteigenschaften berücksichtigend. Die automatische Waferanalyse dient zur Erkennung und Quantifizierung von Defekten auf jedem Wafer mit einer Registrierungsgenauigkeit von bis zu 0,25 Mikron. CAD-Compare wird für einen Vergleich der entworfenen und gemessenen Merkmalstopographien des Halbleiterbauelements verwendet, wodurch der Gerätedesigner die korrekte Herstellung seiner Konstruktionen überprüfen kann. Schließlich ermöglicht das Röntgenbildmodul die Identifizierung physikalischer und elektrischer Defekte in jeder Maske und jedem Wafer. Das Asset nutzt ein CCD-Abbildungsmodell, um Bilder der Masken und Wafer und ein für jeden Scan digital erzeugtes Bild zu erfassen. Es verfügt über eine automatische Laserausrichtungsfähigkeit in XY- und XYZ-Richtung, so dass Bediener die Wafer- und Maskenabschnitte für die Inspektion genau ausrichten können. APPLIED MATERIALS Complus Mask & Wafer Inspection Equipment ist in der Lage, Daten mit bis zu 30.000 Pixeln pro Sekunde zu sammeln und hat eine Lichtfeldblende von 0,6 - 20 mm. Darüber hinaus haben Benutzer die Möglichkeit, zwischen verschiedenen Farbpalettenoptionen zu wählen, um die Inspektionsdaten optimal anzuzeigen. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus Mask & Wafer Inspection System ist mit einer gut abgerundeten Sammlung von Software-Tools und Funktionen ausgestattet. Dazu gehören eine hervorragende Bildverarbeitungssoftware, eine Echtzeit-Bildanalyse und ein leistungsfähiges Werkzeug zur Prozessanalyse, um prozessbezogene Ertragsverluste zu identifizieren und zu bewerten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über automatisierte Mustererkennungsfunktionen, mit denen Bediener detaillierte Inspektionen mit hohen Geschwindigkeiten durchführen können. Zusätzlich zu diesen Funktionen verfügt die Maschine über eine Reihe erweiterter Berichts- und Visualisierungsfunktionen. AMAT Complus Mask & Wafer Inspection Tool ist für Halbleiterbauelementehersteller unerlässlich, da es ihnen ermöglicht, Fehler entlang des Herstellungsprozesses zu identifizieren und zu beheben. Durch Einblicke in die physikalischen und elektrischen Aspekte des Bauelements sowie optimierte Prozesssteuerung und Erträge stellt das Asset sicher, dass Halbleiterbauelemente nach Spezifikation hergestellt werden.