Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9167173 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 ist eine speziell für die Halbleiterindustrie entwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die es ermöglicht, alle kritischen Chip-Funktionen vor der Herstellung schnell und genau zu überprüfen. Seine fortschrittliche Optik und Bildgebungstechnologie ermöglichen einen verbesserten Durchsatz und eine erhöhte Ausbeute an integriertem Schaltungsdesign mit reduzierter Anzahl von Fehlern und Fehlern. AMAT SemVision G2 verwendet Quadrant-Detektor-Technologie für die Bildgebungssicherheit und eine höhere Mustererkennungsleistung. Das spezielle optische Array des Systems ermöglicht das Vier-Wege-Scannen von Maskenmustern, so dass alle Muster aus mehreren Winkeln erfasst werden können. Seine Vektoreinheit erhöht die hochauflösende Abbildung einzelner Merkmale, um eine klare und detaillierte Zeichenerkennung zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht das Hochgeschwindigkeits-Scannen eine schnelle Erkennung und Beseitigung von Produktionsfehlern. Die Maschine ist mit einer Doppelkammer ausgestattet, Klasse 10000 Reinraum, der für effektive Luftduschen und Kammerluftfiltration optimiert ist. Das Luftduschwerkzeug ermöglicht den Eintritt von ultrapurer Luft in das Gerät, wodurch das Risiko von Partikelverunreinigungen verringert wird. Es verwendet auch positionsgetriggerte Luftstrahlen, um Partikel während der Verarbeitung zu evakuieren und so einen hohen Durchsatz zu ermöglichen. Darüber hinaus soll das Asset mit seinem doppelten Fensterdesign, das für eine dynamische bildgebende Reaktion idealisiert ist, ein Höchstmaß an Transparenz bieten. APPLIED MATERIALS SemVision G2 integriert eine hochempfindliche Kamera, die schnelle Datenverarbeitungsgeschwindigkeiten und High Definition (HD) -Bildgebung mit ihrem Modell von hochleistungsfähigen CCD-Bildsensoren (Charge-Coupled Device) liefert. Die Geräte sind mit On-Board-Software für effizientes Informationsmanagement und für die Kompatibilität mit Single oder Multi-Level-Verarbeitung ausgestattet. Darüber hinaus unterstützt das fortschrittliche Betriebssystem sowohl das vollständige Muster als auch die Fehlererfassung mit verbesserten Rückverfolgbarkeits- und Trace-Konvertierungsfunktionen. Abschließend ist die SemVision G2 Masken- und Wafer-Inspektionseinheit optimiert, um eine genaue und zuverlässige Bildgebung mit effizienter Fehler- und Fehlererkennung für die Herstellung integrierter Schaltungen zu ermöglichen. Es integriert fortschrittliche Optik- und Bildgebungstechnologien, die hochauflösende Bilder mehrerer Merkmalswinkel, positionsgetriggerte Luftstrahlen, hochempfindliche Kamera, CCD-Bildsensoren, Softwarekompatibilität und Rückverfolgbarkeit ermöglichen.