Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9190574 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist der Branchenführer in hochpräzise Lithographie Inspektion, bietet überlegene Bildqualität, Genauigkeit und Geschwindigkeit. Das System bietet eine integrierte Bildverarbeitungs- und Inspektionslösung, die für die fortschrittlichsten Lithographieknoten optimiert ist, einschließlich 6nm und darunter. Mit der fortschrittlichsten Bildverarbeitungseinheit ermöglicht diese Art der Inspektion Kunden, höchste Qualität in der Produktentwicklung zu garantieren. Mit einer dedizierten bildgebenden Kalibrierung für jede Funktionsgröße und jeden Knoten bietet diese Maschine die höchste Genauigkeit bei der visuellen Werkzeugprüfung bis zu 6 nm. Mit einem hellen, hochauflösenden 12-Zoll-Durchlicht-Imager und automatischem Fokus bietet das Tool scharfe, klare Bilder mit zuverlässigem Kontrast über das gesamte Bildfeld. Neben der hochpräzisen Inspektion bietet AMAT SemVision G2 mit seiner patentierten automatischen Fehlererkennung eine zerstörungsfreie Überprüfung von Defekten an Masken und Wafern. Dieses Fehlererkennungsmodell dient zur Erkennung von Defekten wie linienseitiger Überbrückung, Grubenüberbrückung, Linienbrüchen, optischer Näherungsfehler (OPD) -Erkennung, Partikeln und Verschmutzung. Das Gerät bietet auch ein integriertes Scansystem, das Daten von verschiedenen Geräten wie CD-Messsonde und FOUP sammelt. Diese Einheit kann auch angepasst werden, um CD-Schlitz- oder binäre Schlitzmessung sowie Aberrationsmessung durchzuführen. Darüber hinaus ermöglicht die Maschine Kunden, wertvolle Zeit im Entwicklungsprozess zu sparen, indem sie eine schnelle, einfache und genaue Inspektion und Messung ermöglicht. In Bezug auf Flexibilität und Produktivität bietet das Tool APPLIED MATERIALS SemVision G2 eine breite Palette innovativer Funktionen, die den Anforderungen des Kunden entsprechen. Dieses Asset bietet die Möglichkeit, Wafer-Dimensionen sofort neu zu konfigurieren und beinhaltet eine neuartige Load-Port-Architektur. Es kommt auch mit einer benutzerfreundlichen GUI-Oberfläche, automatische Werkzeugauswahl und eine intuitive, einfach zu bedienende Oberfläche mit einfacher Navigation für komplexe Operationen. Insgesamt ist das SemVision G2-Modell die führende Lösung für die Masken- und Waferinspektion und bietet fortschrittliche Bildgebung und Kalibrierung für hohe Präzisionsgenauigkeit. Die integrierte Bildverarbeitung und das Scannen bieten präzise Ergebnisse mit weniger Zeit- und Kostenaufwand, was es Kunden ermöglicht, effizienter und produktiver in ihrem Prozess zu sein. Mit Bildern höchster Qualität und der schnellsten Fehlererkennung bietet es die beste Lithographieleistung für die fortschrittlichsten Lithographieknoten.