Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G3 #9274013 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G3 ist ein Mask & Wafer Inspection Equipment, das höchste optische Leistung und Bildqualität bietet und die genaueste Platzierung und Ausrichtung von Masken und Wafern ermöglicht. Das System kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich Fehlererkennung, Overlay-Messung und 3D-Profilometrie. AMAT SemVision G3 wurde entwickelt, um der Halbleiterindustrie überlegene Bildgebungs- und Inspektionsmöglichkeiten zu bieten. Es verwendet fortschrittliche Bildgebungstechnologien und einen automatisierten Algorithmus, um genaue Fehlererkennungs-, Overlay-Mess- und 3D-Profilometriefunktionen bereitzustellen. Das Gerät nutzt drei unabhängige Bildgebungssysteme, die in Kombination ein unübertroffenes Leistungsniveau bieten. Zu diesen Systemen gehören die fast sichtbare Bildverarbeitungsmaschine (NIS), das Elektronenstrahl-Schreibgerät (EBS) und das kombinierte Wafer- und Maskeninspektions-Asset (WMIS). Das NIS bietet eine optische Auflösung zur Charakterisierung nanometergroßer Merkmale über ein großes Sichtfeld. Es hat auch die Fähigkeit, sehr kleine Mikrofehler oder Strukturen zu erkennen und zu messen. Die Kombination aus NIS- und EBS-Systemen ermöglicht höchste Genauigkeit bei kritischen Ausrichtungsmessungen. Das WMIS ist ein kombiniertes Wafer- und Maskeninspektionsmodell, das fortschrittliche bildgebende Technologien und Algorithmen verwendet, um präzise Fehlererkennungs- und Überlappungsmessfähigkeiten bereitzustellen. Das Gerät nutzt die zweidimensionale (2D-) Videobildgebung und eine 3D-Scantechnik, mit der der Benutzer sowohl den Wafer als auch die Maske genau analysieren und messen kann. APPLIED MATERIALS SemVision G3 verfügt auch über eine Reihe weiterer Funktionen, wie automatisierte Kalibrierung und Bedienung, 16-Bit-Auflösung, ein eingebettetes Metrology 3D Laser Confocal Microscope (LCM) und ein integriertes softwaregesteuertes Mess- und Analysesystem. SemVision G3 ist die ideale Lösung für die schnelle und präzise Inspektion und Charakterisierung von Masken und Wafern und ermöglicht es Halbleiterprofis, qualitativ hochwertige Produkte und Dienstleistungen zu liefern. Seine breite Palette an Funktionen und erweiterte Bildgebungs- und Analysefunktionen machen es zu einer idealen Wahl für jede Halbleiteranwendung.