Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G4 #9401994 zu verkaufen

ID: 9401994
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
Defect review system, 12" 2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G4 ist eine hochmoderne Hightech-Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die Erkennung und Charakterisierung von Mikrofehlern an Photomasken und Wafern ermöglicht. Das Inspektionssystem ist in der Lage, Fehler bis zu einer Auflösung von 6 Mikrometern zu erkennen und kann für eine Vielzahl von Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen eingesetzt werden. Der G4 verwendet vertrauensgesteuerte Muster-Matching-Algorithmen zusammen mit einer Reihe von anspruchsvollen Bildverbesserungstechniken, um die Fehlererkennung zu ermöglichen. Das Gerät wurde entwickelt, um sowohl Vorder- als auch Rückseitenbilder von Wafern und Masken zu analysieren, wodurch selbst kleinste Fehler schnell und effizient erkannt werden können. Es verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die Maschine schnell und einfach konfigurieren können, um Fehler in Vorder- und Rückseitenbildern zu erkennen, zu klassifizieren und zu bewerten. Der G4 ist mit einer Xeno-Lichtquelle und einer Lichtbogenlampe ausgestattet, die eine optimale Lichtquelle für die Erkennung selbst kleinster Defekte schafft. Es verfügt über zwei führende CCD-Kameras, die ein hochauflösendes Objektiv verwenden, um Bilder von Masken und Wafern zu erfassen. Unter Verwendung leistungsstarker Bildanalyse-Algorithmen ist das Tool in der Lage, mikroskopische Defekte an Masken und Wafern zu erkennen und zu charakterisieren. Das G4 umfasst eine Reihe von Submikron-Fehlererkennungsalgorithmen, wie z. B. DRC (Direct Registration of Characters) zur effizienten Anpassung von Submikron-Strukturen. Es verfügt auch über einen Fehlerüberprüfungsalgorithmus auf Pixelebene, der es dem Benutzer ermöglicht, verdächtige Fehler zu überprüfen und im Detail anzuzeigen. AMAT SemVision G4 ist ein unverzichtbares Werkzeug für die Herstellung von Halbleitern und Mikroelektronik und bietet eine schnelle und zuverlässige Möglichkeit, Fehler an Photomasken und Wafern zu erkennen und zu charakterisieren. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungsalgorithmen, der leistungsstarken Lichtquelle und der intuitiven Benutzeroberfläche setzt der G4 den Standard für Masken- und Wafer-Inspektionssysteme.
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