Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Semvision G5 + EDX #9145244 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Semvision G5 + EDX ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterherstellung. Dieses System bietet eine zuverlässige und effiziente Methode, um sicherzustellen, dass die in der Herstellung von Produkten verwendeten Masken und Wafer von höchster Qualität sind. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von Detektoren und bildgebenden Techniken, um die Masken und Wafer schnell und genau auf Fehler, Verzerrungen und andere Unvollkommenheiten zu untersuchen. AMAT Semvision G5 + EDX besteht aus einem Maskeninspektionsmodul, einem optischen Mikroskop, einem CCD-Array, einem Elektronendetektor und einem Probenhalter. Das Maskenprüfmodul verwendet eine hochauflösende Kamera und eine Hochleistungslichtquelle, um mikroskopische Bilder der Maske zu erfassen. Das optische Mikroskop wird verwendet, um Maske und Wafer visuell auf Fehler und Unvollkommenheiten zu überprüfen, während das CCD-Array verwendet wird, um digitale Bilder der Maske zu sammeln. Der Elektronendetektor dient zur Erfassung und Analyse von nanoskaligen Elementen in den Masken und Wafern. Der Probenhalter ist so konzipiert, dass er die Masken und Wafer während der Inspektion sicher hält. ANGEWANDTE MATERIALIEN Semvision G5 + EDX verwendet auch eine Reihe von computerbasierten Analysetools und Software, um die Masken und Wafer schnell und genau zu bewerten. Dazu gehört eine automatisierte Fehlerinspektionssoftware, die Fehler an Masken und Wafern erkennen und identifizieren soll. Es sind auch zusätzliche Software-Tools enthalten, die die Einhaltung etablierter internationaler Standards überprüfen sollen. Semvision G5 + EDX bietet eine einzigartige Kombination aus Geschwindigkeit, Genauigkeit und Erschwinglichkeit, die es zu einer attraktiven Wahl für Halbleiterherstellungsgeschäfte machen, die die Genauigkeit und Effizienz ihrer Masken- und Waferinspektionsprozesse verbessern möchten. Diese Maschine ist in der Lage, hochauflösende Bilder mit einer Geschwindigkeit von bis zu 6.000 Bildern pro Sekunde zu erfassen und kann Unvollkommenheiten bis zu 0,15 Mikrometer erkennen. Darüber hinaus kann das Werkzeug problemlos in bestehende Produktionslinien integriert werden, was eine schnellere Markteinführung ermöglicht.