Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G5 #9132901 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G5 ist eine integrierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung und Identifizierung von Defekten in Photomasken und Halbleiterscheiben der neuesten Technologie. Das AMAT SemVision G5-System nutzt eine Reihe fortschrittlicher 3D-Bildgebungstechnologien, einschließlich Deep Flare™, um eine beispiellose Empfindlichkeit bei der Fehlererkennung zu erreichen. Ein integrierter vollautomatischer Videoprüf- und Messtechnik-Motor ermöglicht eine schnelle, hochautomatisierte Fehlerüberprüfung von Wafern und Masken. ANGEWANDTE MATERIALIEN SemVision G5 Einheit ist mit einem High-Speed-Strobe und CCD-Kameramaschine ausgestattet. Der Strobe bietet eine kontrastreiche Abbildung von Photomasken, während die CCD-Kamera sowohl auf Masken- als auch auf Waferoberflächen lichtempfindliche Defekte erkennt und erfasst. Eine einstellbare Öffnung beleuchtet nur die interessierende Chipoberfläche, während das große Sichtfeld die Detektion von Oberflächenverunreinigungen einschließlich Partikeln ermöglicht. Die Deep Flare-Technologie verwendet mehrere Bildrahmen, die auf verschiedenen Ebenen und Tiefen erfasst werden, um Fehler innerhalb eines Chips zu analysieren und deren Größe und Schwere zu bestimmen. Deep Flare ermöglicht die Inspektion von Funktionen mit hoher Dichte wie 128-nm-Knotenmustermedien, was zu einer erhöhten Empfindlichkeit gegenüber kleinen Fehlern führt. Das Metrologiemodul von SemVision G5 Tool ist ein integriertes Framework zur Vollchip-Analyse von Photomasken und Wafern. Das Asset ist hochautomatisiert und umfasst eine spezialisierte Analysesoftware, die eine schnellere und genauere Fehlerüberprüfung ermöglicht. Die Videoprüfmaschine erhöht die Genauigkeit von Fehlermessungen weiter und bietet eine bequeme protokollierte Aufzeichnung von Inspektionen. AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G5 ist eine leistungsstarke integrierte Masken- und Wafer-Inspektionslösung, die erstklassige Fehlererkennungstechnologie mit automatisierter Messtechnik kombiniert. Es eignet sich für die Inspektion von Photomasken- und Waferoberflächen und kann überlegene Fehlerempfindlichkeit, Zuverlässigkeit und Genauigkeit bieten.