Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision #9204131 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision
ID: 9204131
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Defect review system, 8" 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es bietet modernste Fehlererkennung auf globaler Waferebene mit automatisierter Fehlerüberprüfung. Es hat ein einzigartiges Design, das die Waferinspektion optimiert und gleichzeitig die Fehlererkennungsgenauigkeit maximiert. Das System kombiniert eine Kombination aus optischen, thermischen und elektrischen Messgrößen, um Merkmale auf der Waferoberfläche zu scannen und genau zu messen. Es verfügt über optische und thermische Sensoren, die Defekte bis zu einer Auflösung von 1 Mikron erkennen. Darüber hinaus verwendet es modernste algorithmische Analysen, um mustersensitive Defekte zu erkennen. Das Gerät ist in der Lage, Masken mit bis zu 50 µm Größe zu überprüfen. AMAT SemVision Maschine umfasst Unterstützung für mehrere Bildverarbeitungs-Pipelines einschließlich Infrarot (IR) Inspektion, Auto-Rescan, und automatisches Scannen von Standard-oder benutzerdefinierte Design-Maske Schaltungen. Die IR-Inspektion ermöglicht es dem Werkzeug, mehrere Bilderrahmen gleichzeitig in 3D zu überprüfen. Es bietet auch einen automatisierten Lernprozess in Echtzeit und erweiterte Analysetools, um Fehler zu identifizieren. Die benutzerfreundliche Software des Asset bietet eine sehr intuitive Benutzeroberfläche, die an die Bedürfnisse jedes Benutzers angepasst werden kann. Es bietet auch erweiterte Funktionen wie Fehlerzuordnung, mehrfaches Fehlerprotokolldrucken, detaillierte Berichte und Histogramme nach der Verarbeitung. Darüber hinaus bietet APPLIED MATERIALS SemVision eine umfassende Bibliothek mit Fehlererfassungswerkzeugen und Prozessüberwachungswerkzeugen, die es Anwendern ermöglicht, die höchste Ausbeute und Qualität ihres Masken- und Wafer-Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Um maximale Effizienz zu gewährleisten, kann sich das Modell an die ständig wechselnden Wafer- und Maskendesigns anpassen. Sein einzigartiger prozessorientierter Ansatz zur Fehlererkennung und -überprüfung macht ihn hocheffizient und kostengünstig. All dies ergänzt eine robuste Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die ein zuverlässiges und zuverlässiges Werkzeug bietet, um die höchste Qualität und Ausbeute Ihrer Produktion zu gewährleisten.
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