Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 200S #293749018 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 200S ist eine weltweit führende, Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur automatisierten Detektion und Inspektion von Halbleiterscheiben. Das System ist für eine kostengünstige, schnelle und zuverlässige Masken- und Waferinspektion konzipiert, die jeden Schritt im Herstellungsprozess effizient überwachen kann. AMAT UVision 200S ist mit einer Reihe hochentwickelter Technologien ausgestattet, um Defekte sowohl an der Masken- als auch an der Wafer-Produktionslinie zu erkennen und zu erkennen. Es verfügt über hochauflösende optische Sensoren zur Inspektion dynamisch wechselnder Formen, um Genauigkeit und Geschwindigkeit zu gewährleisten. Das Gerät verwendet außerdem eine UHV-Kamera (Ultra-High Quantum Efficiency), um kontrastreiche Bilder in UV- und sichtbarem Licht zu erfassen. Es verfügt auch über eine proprietäre TomoAccurateTM Software-Suite, die Echtzeit-Analyse und konkrete Inspektionsergebnisse bietet. Die Software kann auch Fehler in Nanometern erkennen und klassifizieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN UVision 200S verfügt auch über ein Multi-Angle Scatterometer (MAS), das Defekte in Substraten präzise lokalisiert. Dadurch ist diese Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine in der Lage, Fehler zu erkennen und detaillierte Berichte in 0,1 μ m Auflösung bereitzustellen. Darüber hinaus verfügt UVision 200S über maschinelles Lernen, das eine schnelle Erkennung kritischer Fehler und verbesserte Prozessverbesserungen ermöglicht. Seine leistungsfähigen Algorithmen sind in der Lage, Prozessschwankungen im Laufe der Zeit mit granularen, datengesteuerten Analysen zu bewerten und zu überwachen. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 200S ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das eine kostengünstige automatisierte Inspektion und Fehlererkennung ermöglicht. Diese Anlage ist mit einer Reihe modernster optischer Sensoren, proprietärer Software und maschineller Lernfunktionen zur präzisen Erkennung und Analyse von Masken und Wafern ausgestattet. Es ist in der Lage, Fehler in Nanometern mit einer Auflösung von 0,1 μ m zu erkennen und zu klassifizieren, was eine genaue Überwachung des gesamten Produktionsprozesses ermöglicht.