Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 3 #293609484 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 3 Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes optisches Inspektionssystem für den Einsatz im Backend-of-Line (BEOL) Halbleiterherstellungsprozess. Die Einheit untersucht jedes Reticle und Wafer, um Fehler bei Maskenmusterung, Messtechnik und Ausrichtung zu erkennen. Es kann verwendet werden, um Retikel und Wafer in mehreren verschiedenen Stufen des BEOL-Prozesses zu bewerten, einschließlich Photomasken-Fabrikationen, Belichtung von Resistschichten und Ätzprozesse. Die Maschine besteht aus mehreren Komponenten, die zusammenarbeiten, um qualitativ hochwertige, hochauflösende Inspektion aller Merkmale auf dem Reticle und Wafer gleichzeitig zu ermöglichen. Eine der Hauptkomponenten ist das Strahlprojektor-Werkzeug, in dem sich der Strahlscanner und die Linsenanordnung befinden, sowie ein Retikel-Substrathalter. Dieses Asset wurde entwickelt, um einen sichtbaren Lichtstrahl auf das Reticle oder Wafer zu fokussieren und die gesamte Oberfläche Zeile für Zeile genau zu scannen. Der Strahl wird dann vom Reticle oder Wafer zurück zum Strahlprojektormodell reflektiert und analysiert. Die nächste Komponente ist die Mustererkennungseinheit, die verwendet wird, um die Daten aus der Strahlprojektorausrüstung zu analysieren und Fehler und Defekte am Reticle und Wafer zu erkennen. Dieses Gerät verwendet erweiterte Algorithmen, um Fehler zu erkennen, die mit bloßem Auge möglicherweise nicht sichtbar sind. Die Software kann auch KE-Größe, Platzierung und Abstand messen, um sicherzustellen, dass Reticle und Wafer die festgelegten Anforderungen erfüllen. Die letzte Komponente von AMAT UVision 3 Mask and Wafer Inspection System ist die Display & Control Unit. Dieses Gerät besteht aus einem Touchscreen-Display, mit dem das Gerät gesteuert und auf Produktdaten zugegriffen wird. Es enthält auch eine integrierte Kamera, um das Retikel und den Wafer anzuzeigen, und einen Drucker, so dass Berichte direkt vom Gerät gedruckt werden können. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS UVision 3 Mask and Wafer Inspection Machine ein robustes und zuverlässiges Werkzeug, das entwickelt wurde, um Reticles und Wafer während des BEOL-Prozesses effektiv zu inspizieren. Es ist in der Lage, Fehler zu erkennen, die mit bloßem Auge nicht nachweisbar sein können, und die Größe, Platzierung und Abstände von Merkmalen zu messen, was eine gleichbleibende Genauigkeit und Präzision bei der Inspektion von Reticles und Wafern ermöglicht.