Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #9293623 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte bieten eine branchenführende umfassende Lösung zur Fehlererkennung und -charakterisierung. Das System bietet Hochgeschwindigkeitsinspektion von Fotomasken und Oblaten durch die Anwendung der fortgeschrittenen (UV) ultravioletten Hochleistungslaserentdeckungstechnologie an. Mit der Fähigkeit, Defekte bis zu 5 μ m zu erkennen und zu charakterisieren und Clusterdefekte zu erkennen, ermöglicht AMAT UVision 4 die umfassendste und genaueste Fehlererkennung. ANGEWANDTE MATERIALIEN UVision 4 wurde entwickelt, um die effizientesten und zuverlässigsten Wafer- und Photomasken-Inspektionen zu liefern. Mit einem hochauflösenden Laserspaltscan und Blickfeld (FOV) ermöglicht das Gerät Benutzern die schnelle und genaue Inspektion der schwierigsten Fehlererkennung von unterhalb des 5 μ m Niveaus. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Laserrasterverarbeitung von UVision 4 eine unübertroffene Empfindlichkeit und gleichmäßige Abdeckung bei konstanter Bildverstärkung. Auch AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4 bietet hervorragende Fehlercharakterisierungsfähigkeit. Durch die Kombination von laserspezifischen Detektionsalgorithmen und leistungsstarker digitaler Bildverarbeitung ist die Maschine in der Lage, sowohl 2-dimensionale als auch 3-dimensionale Defekte auf dem Wafer und der Photomaske genau zu charakterisieren. Mit der Fähigkeit, zwischen Merkmalstyp, Druckdichte und Oberflächentopographie des Fehlers zu unterscheiden, bietet das Werkzeug beispiellose Charakterisierungsgenauigkeit. Neben der Fehlercharakterisierung bietet AMAT UVision 4 eine leistungsstarke Software-Suite zur Verwaltung und Präsentation der Asset-Daten. Erweiterte Softwarefunktionen wie Auto Defect Reconciliation, Defect Clustering, Defect Type Returns, Auto Adaptive Statistics und Bulk Map Segmentation ermöglichen es Benutzern, Inspektionsergebnisse schnell zu analysieren und mögliche Quellen für Qualitätsprobleme zu identifizieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN UVision 4 Masken- und Wafer-Inspektionsmodell ist eine branchenführende Lösung zur Erkennung und Charakterisierung von Defekten im Bereich von 5 μ m und weniger. Unter Verwendung hochauflösender Lasererkennung und leistungsstarker digitaler Bildverarbeitung kann UVision 4 sowohl 2-dimensionale als auch 3-dimensionale Defekte auf dem Wafer und der Photomaske genau erkennen und charakterisieren. Mit der Fähigkeit, Fehlertyp, Druckdichte und Oberflächentopographie zu erkennen, können Anwender sicherstellen, dass das Produkt von höchster Qualität hergestellt wird. Die Ausrüstung wird außerdem durch eine leistungsstarke Bildgebungssoftware unterstützt, die Anwender bei der schnellen Analyse von Inspektionsergebnissen und der Identifizierung von Quellen für Qualitätsprobleme unterstützt.