Gebraucht AMECON JANUS 200 / 300 #9193407 zu verkaufen

AMECON JANUS 200 / 300
ID: 9193407
Inspection system.
AMECON JANUS 200/300 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um überlegene Ertragsergebnisse zu erzielen. Dieses System verwendet dedizierte Sensoren mit hoher Empfindlichkeit und Auflösung, um gedruckte Defekte zu erkennen, sodass sie sowohl in Produktions- als auch in Forschungs- und Entwicklungsumgebungen verwendet werden können. Die Kombination aus überlegener Optik und Detektorempfindlichkeit führt zu einer Fehlererkennungsrate von bis zu 10 µm, wodurch keine Fehler vermisst werden und dennoch eine schnelle Inspektionsrate von mehr als 250 Wafern pro Stunde erreicht wird. Die Software, mit der das Gerät bedient wird, ist leicht verständlich und ermöglicht eine schnellere Einrichtung und Verwendung für jeden Prozess. Die JANUS 200/300 verfügt über eine robuste Konstruktion, die hochpräzise Abtaststufen für die Ausrichtung und Positionierung von Wafern, hochpräzise X-Y-Stufen für eine schnelle Musterausrichtung, automatische Belichtungssteuerung, Autofokus und einstellbare Laserleistung umfasst, um eine perfekte Ausrichtung des inspizierten Bereichs zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer maßgeschneiderten miniaturisierten glasfaserbasierten optischen Engine ausgelegt, die das volldimensionale Bild jedes Wafers mit minimaler Eingriffszeit erfasst. Neben der Fehlererkennung ist das Werkzeug auch mit Defektklassifizierern ausgestattet, die eine schnelle und genaue Sortierung erkannter Fehler in aussagekräftige Kategorien ermöglichen. Auf diese Weise können die Bedienungspersonen die Ursachen etwaiger Mängel schnell beurteilen, so dass gegebenenfalls Abhilfemaßnahmen getroffen werden können. Die JANUS AMECON JANUS 200/300 verfügt auch über eine Reihe von innovativen Technologien, die es ideal für den Einsatz in der Produktionslinie machen. Dazu gehören seine Fähigkeit, bei extremen Temperaturen zu arbeiten, seine Fähigkeit, mehrere verschiedene Muster von verschiedenen Substraten zu registrieren und zu merken, und seine Fähigkeit, leicht zwischen mehreren wählbaren Linsen zu wechseln. Darüber hinaus können die interne Logik und der Speicher des Geräts Informationen über bis zu 1000 Wafersubstrate speichern und gleichzeitig mehrere Fehler in einem einzelnen gescannten Wafer erkennen, was es zu einem unschätzbaren Vorteil für jede Produktionslinie macht. Die Kombination aus robuster Konstruktion, verbesserter Optik und fortschrittlicher Software liefert ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das qualitativ hochwertige Ergebnisse bei minimaler Zykluszeit liefert. 200/300 ist die perfekte Lösung für jeden Halbleiterherstellungsprozess und liefert hervorragende Ausbeute und zuverlässige Ergebnisse.
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