Gebraucht AMETEK / TAYLOR HOBSON i-Series PRO #293808007 zu verkaufen

ID: 293808007
Weinlese: 2020
Surface and contour measurement system P/N: M112-105482 Inductive gauge system: 5 mm Traverse unit, 120 mm Motorized column, 450 mm (±9° Tilt) Calibration ball Stylus tips: 2μm, 60° / 90° 112-102577-01 CNC Y-Axis Locating stage 112-1859 Self centering chuck 112-4902 Manual 3-Axis stage Calibration: Straightness: 0.114 µm Gauge calibration – Pt: 0.079679 µm Gauge 3-Line calibration: 0.826 µm Gauge system noise: Rz 4 nm Additional stylus: (2) 112-4577-02 (2) 112-4593-02 (2) 112-4575-02 PC Workstation Dual monitor UPS Keyboard tray 2020 vintage.
AMETEK/TAYLOR HOBSON i-Series PRO ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die für hochpräzise Oberflächenmesstechnik und Fehlererkennung in Halbleiterherstellungsprozessen und anderen verwandten Industrien entwickelt wurde. Dieses hochmoderne Instrument integriert modernste Technologie und innovative Funktionen, um genaue und zuverlässige Messdaten für Qualitätssicherungs- und Prozesskontrollanwendungen bereitzustellen. Das Herzstück der AMETEK i-Series PRO ist ein ausgeklügeltes Bildgebungssystem, das hochauflösende Kameras und erweiterte Optik verwendet, um detaillierte Bilder der Oberfläche von Masken und Wafern zu erfassen. Diese Bilder werden mit fortschrittlichen Algorithmen und Analysetools verarbeitet, um kritische Informationen über die Topographie, Rauheit und Fehler auf der Probenoberfläche zu extrahieren. Das Gerät ist in der Lage, Daten bei Sub-Nanometer-Auflösung zu erfassen, so dass auch kleinste Fehler und Abweichungen von den gewünschten Oberflächeneigenschaften erkannt werden können. Eines der Hauptmerkmale der TAYLOR HOBSON i-Series PRO ist die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche, mit der Anwender Experimente einfach einrichten, Daten erfassen und Ergebnisse mit minimalem Training oder Fachwissen analysieren können. Die Maschine bietet eine Reihe vorkonfigurierter Messmodi für gängige Oberflächenmesstechnik-Aufgaben sowie die Flexibilität, Messparameter und Analysealgorithmen an die spezifischen Anforderungen verschiedener Anwendungen anzupassen. I-Series PRO ist in der Lage, eine breite Palette von Oberflächenparametern zu messen, einschließlich Rauheit, Welligkeit, Formfehler und Partikelverunreinigung. Das Werkzeug kann sowohl 2D- als auch 3D-Oberflächenmesstechnik-Messungen durchführen, die eine umfassende Charakterisierung der Probenoberfläche aus mehreren Perspektiven ermöglichen. Dies ermöglicht den Anwendern ein gründliches Verständnis der Oberflächeneigenschaften und Qualität von Masken und Wafern, was die Prozessoptimierung und Qualitätskontrolle erleichtert. Neben der Oberflächenmesstechnik ist die AMETEK/TAYLOR HOBSON i-Series PRO mit fortschrittlichen Fehlererkennungsfunktionen ausgestattet, die die Identifizierung und Klassifizierung von Defekten wie Kratzern, Gruben, Partikeln und Musterabweichungen ermöglichen. Das Asset nutzt maschinelle Lernalgorithmen und Mustererkennungstechniken, um Fehler auf der Probenoberfläche automatisch zu erkennen und zu quantifizieren und so wertvolle Erkenntnisse über die Qualität und Integrität von Masken und Wafern zu liefern. AMETEK i-Series PRO ist so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Probengrößen und -formen kompatibel ist und die Analyse von Masken und Wafern unterschiedlicher Abmessungen ermöglicht. Das Modell ist mit motorisierten Stufen und Präzisionspositioniersystemen ausgestattet, die genaue und wiederholbare Messungen über die gesamte Probenoberfläche ermöglichen. Dies gewährleistet konsistente und zuverlässige Ergebnisse auch bei der Analyse von Proben mit komplexen Geometrien oder ungleichmäßigen Oberflächen. Insgesamt stellt TAYLOR HOBSON i-Series PRO eine hochmoderne Lösung für die Masken- und Waferinspektion dar, die erweiterte Fähigkeiten für die Oberflächenmesstechnik und die Fehlererkennung in der Halbleiterherstellung und verwandten Industrien bietet. Die i-Series PRO ist ein wertvolles Werkzeug zur Verbesserung der Qualitätskontrolle, Prozessoptimierung und Produktivität in Halbleiterherstellungsprozessen mit hochleistungsfähigen bildgebenden Geräten, einer benutzerfreundlichen Schnittstelle und umfassenden Messfähigkeiten.
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