Gebraucht ASM (Maske & Wafer Inspektion) zu verkaufen

ASM ist ein führender Hersteller von fortschrittlichen Halbleiterproduktionsanlagen, einschließlich Masken- und Waferinspektionsanlagen. Diese Systeme wurden entwickelt, um die Qualität und Genauigkeit der Masken und Wafer zu gewährleisten, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet werden. ASM bietet eine Reihe von Masken- und Wafer-Inspektionseinheiten an, darunter die IBE 139, TIB 139 und IBE- 139H. Das IBE 139 ist ein fortschrittliches Maskeninspektionssystem, das fortschrittliche Analogtechnologie verwendet. Es bietet hochauflösende Bildgebungsfunktionen, die eine genaue und zuverlässige Inspektion von Masken ermöglichen. Die TIB 139 ist ein spezielles Wafer-Inspektionssystem, das auch Analogtechnologie verwendet. Es ist mit innovativen Funktionen ausgestattet, die eine Hochgeschwindigkeitskontrolle von Wafern ermöglichen und die Erkennung von Fehlern oder Auffälligkeiten gewährleisten. Das IBE 139H ist ein Hybridsystem, das sowohl Masken- als auch Wafer-Inspektionsfunktionen kombiniert und eine umfassende Lösung für Halbleiterhersteller bietet. Die Vorteile der Masken- und Waferinspektionsmaschinen von ASM liegen in ihrer hohen Präzision, Geschwindigkeit und Vielseitigkeit. Diese Werkzeuge bieten eine außergewöhnliche bildgebende Qualität und ermöglichen die Erkennung auch kleinster Mängel oder Mängel bei komplexen Maskendesigns. Darüber hinaus bieten sie schnelle Inspektionsmöglichkeiten, die einen hohen Durchsatz und eine höhere Produktivität ermöglichen. Die Masken- und Waferinspektionsmittel von ASM sind ebenfalls hochflexibel, unterstützen verschiedene Wafergrößen und erfüllen unterschiedliche Kundenanforderungen. Zusammengefasst bieten die Masken- und Wafer-Inspektionsmodelle von ASM, wie IBE 139, TIB 139 und IBE 139H, den Halbleiterherstellern fortschrittliche Werkzeuge für eine überlegene Qualitätskontrolle. Diese Geräte bieten hochauflösende Bildgebung, schnelle Inspektionsgeschwindigkeiten und Flexibilität und gewährleisten die effiziente und genaue Herstellung von Masken und Wafern in Halbleiterherstellungsprozessen.