Gebraucht ASML / HMI EP3 #293605104 zu verkaufen

ASML/HMI EP3 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Identifizierung, Messung und Korrektur von Defekten an einzelnen Masken oder Wafern, die in der Halbleiterlithographie verwendet werden. Dieses System kombiniert die Bildgebung des Rasterelektronenmikroskops (SEM) mit fortschrittlichen Mustergenauigkeitsalgorithmen und der Technologie zur Fehlererkennung, um eine automatisierte Bewertung der Mustereigenschaften und der Leistung zu erstellen. Die HMI EP3-Einheit verfügt über einen 200kV Elektronenstrahlgenerator mit angeschlossenen Sekundärelektronen- und Rückstreudetektoren. Es ist in der Lage, Bilder mit Auflösungen bis zu 2nm/Pixel zu sammeln und hat ein Sichtfeld von 0,5 bis zu 4 mm. Es umfasst auch ein Ensemble von Softwarelösungen zur Erweiterung der bildgebenden Fähigkeiten der Maschine, die die Messung kritischer Abmessungen, Mustergeometrien, Tonhöhenwerte und die quantitative Analyse von Masken- und Waferbildern ermöglichen. Diese Software-Tools ermöglichen eine präzise Fehlerquantifizierung und Identifizierung einschließlich der Fähigkeit, Fehler von Hintergrundmerkmalen zu unterscheiden. Das ASML EP3-Tool verfügt auch über dreidimensionale Funktionen der Messtechnik, die schnelle und genaue Maßmessungen mit einer Auflösung von bis zu 50 nm ermöglichen. Dies geschieht mit mehreren Ansichten, um separate Bilder komplexer dreidimensionaler Funktionen zu rekonstruieren, sodass Kunden ihren Wafer-Stapel aus einer einzigen Bildaufnahme messen können. EP3 Asset umfasst eine Vielzahl von Methoden zur Identifizierung, Quantifizierung und Korrektur von Fehlern. Diese Verfahren umfassen automatisierte Mustererkennungsalgorithmen zur Fehlererkennung und zur Visualisierung von Unterschieden zwischen erwarteten und tatsächlichen Mustern. Dieses Modell bietet auch Werkzeuge für physikbasierte Simulation, die es Kunden ermöglichen, ihren Prozessablauf zu verstehen und für eine verbesserte Produktleistung zu optimieren. Schließlich bietet ASML/HMI EP3 Tools zur Analyse von Masken- und Waferbildern und zur Korrektur ihrer Leistung. Dazu gehören direkte Schreibtechnologien für die Reparatur von Masken und Wafern sowie Masken- und Waferbearbeitungssoftware zur Änderung von Bildern und Mustern. HMI EP3 bietet einen integrierten Ansatz für Fehleranalyse und Wafer/Maskenkorrektur, der Kunden hilft, Kosten und Zykluszeit zu reduzieren und gleichzeitig die Leistung zu erhalten oder zu verbessern.