Gebraucht ASML / HMI EP3 #293615134 zu verkaufen

ASML/HMI EP3 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Halbleiterfabriken hochauflösende Bildgebungs- und kritische Inspektionsmöglichkeiten zu bieten. Das System besteht aus einer elektrooptischen Säule, die mit einer hochmodernen Feldemissionselektronenquelle und einer Festkörperbildsäule integriert ist. Die mehrzonige optische Einheit ist mit Laser-Lichtquelle und Entmagnetisierungsoptik ausgestattet und bietet ein großes Blickfeld mit erweiterter Fokustiefe. Zur Verringerung der Verzerrung unter Beibehaltung einer hohen Vergrößerung wird eine Mehrwinkel-Abbildungstechnik eingesetzt. Der Multi-Beam Electron Scanning Head enthält einen Sekundärelektronendetektor und eine zentrierte Feldemissionselektronenquelle, die einen Strahl mit variablen Beschleunigungsspannungen bis 100kV erzeugen kann. Die Strahlen sind in der Lage, eine kontrastreiche Abbildung mit in den Proben vorhandenen Kristallstrukturen zu erzeugen. Das Abbildungsmodul ist in eine breite Palette von Steuerungs- und Datenerfassungselektronik integriert. Das Softwaremodul des Geräts bietet eine intuitive und bedienerfreundliche grafische Benutzeroberfläche mit langfristigen Datenspeicher- und Abruffunktionen. Die Inspektionsergebnisse können zur Präzisionssteuerung des Masken- und Wafer-Herstellungsprozesses in die Prozesssteuerungsmaschine integriert werden. HMI EP3 ermöglicht auch die Anpassung an individuelle Werksanforderungen durch die Bereitstellung von benutzerdefinierten Inspektionsbereichen, detaillierten Fehlertabellen und programmierbaren Datenspeicher- und Abruffunktionen. Darüber hinaus ist das Werkzeug zuverlässig, effizient und präzise bei der Erzielung präziser Ergebnisse innerhalb der vorgegebenen Prüfparameter. Das Asset ermöglicht es dem Benutzer, mehrere Ansichten desselben Objekts zu steuern, was eine bessere Auflösung und Bildqualität ermöglicht. Die Mehrstrahloperationen erhöhen die Abtastzeiten und die Strahlsteuerung ermöglicht präzise Details in Polygonebenen. Darüber hinaus ermöglicht die Masken- und Wafer-Bildgebungssoftware dem Bediener, Inspektionszonen zu definieren, sie über mehrere Schichten zu überwachen und etwaige Fehler während des Bildgebungsprozesses zu isolieren. Abschließend ist ASML EP3 ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine zuverlässige und effiziente Leistung mit hochauflösender Bildgebung und kritischen Inspektionsmöglichkeiten bietet. Die Geräte sind individuell an die Anforderungen des Werks anpassbar und ermöglichen eine präzise Fehlerüberwachung und Datenabfrage. Die mehrzonige optische Bildgebung, der Mehrstrahl-Elektronenabtastkopf und die benutzerfreundliche Softwareschnittstelle machen das System zur perfekten Wahl für die Produktionsprozesssteuerung und -inspektion in der Halbleiterindustrie.