Gebraucht BROOKS AUTOMATION 3L #9197117 zu verkaufen

BROOKS AUTOMATION 3L ist eine vollautomatische Wafer- und Maskeninspektionsanlage, die für den Einsatz in Halbleiterwafer-Fertigungsumgebungen bestimmt ist. Das System ist eine hochauflösende Wafermustererkennungsplattform, die mit modernster Bildgebungs- und Analysetechnologie Wafermuster und Masken auf Defekte untersucht. Das Gerät verfügt über ein modernes Renishaw-Laserinterferometer mit zwei Wellenlängen zur präzisen optischen Ausrichtung. Dadurch wird sichergestellt, dass jeder Wafer genau abgetastet wird und dass das aufgenommene Bild korrekt bezüglich der Datenpunkte über das gesamte Wafermuster ausgerichtet ist. Die Dual-Wellenlängen-Laser sorgen zudem für minimale Fehler und maximieren die Genauigkeit bei der Fehlererkennung und -analyse. 3L-Maschine verwendet die neueste Mustererkennungssoftware, so dass das Werkzeug subtile Variationen in Wafermustern erkennen kann. Darüber hinaus kann es eine Vielzahl von Defekten, einschließlich Kratzer, Gruben, Hohlräume und Partikel zu erkennen. Das Asset bietet auch eine breite Palette von Bildanalysetools, mit denen Benutzer kritische Aufgaben zur Fehlererkennung und -analyse ausführen können. BROOKS AUTOMATION 3L-Modell verwendet fortschrittliche Kantenerkennungsalgorithmen, um Kanten und Bildverarbeitungsalgorithmen genau zu erkennen, um ultrahochauflösende Bilder der Wafermuster zu erzeugen. Ein einzigartiger Software-Algorithmus ermöglicht es dem Gerät, Fehler wie Partikel und Hohlräume auch in komplexen Wafermustern zu erkennen. Neben den erweiterten Bildgebungsfunktionen umfasst das System auch eine Reihe fortschrittlicher Datenanalysetools. Diese Suite ermöglicht es Benutzern, verschiedene Arten von Defekten zu erkennen und zu analysieren und Prozessvariationen zu analysieren. Darüber hinaus bietet das Gerät eine umfassende Datenbank mit archivierten Daten, mit der Anwender potenzielle Prozessvariationen schnell und genau erkennen und bewerten können. Kurz gesagt, 3L ist eine leistungsstarke Wafer- und Maskeninspektionsmaschine, die für den Einsatz in Halbleiterherstellungsumgebungen entwickelt wurde. Das Tool verfügt über fortschrittliche optische Ausrichtungstechnologie, Mustererkennung, Bildverarbeitungsfunktionen, Fehlererkennungs- und Analysealgorithmen und eine umfassende Datenbank mit archivierten Daten. Als solches liefert das Asset hochgenaue und zuverlässige Ergebnisse, die es Anwendern ermöglichen, potenzielle Prozessvariationen schnell zu identifizieren und zu adressieren.