Gebraucht BROWN & SHARPE MicroVal 343 #9140610 zu verkaufen

BROWN&SHARPE MicroVal 343 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine umfassende Lösung zur Präzisionsprüfung, Validierung und Analyse komplexer Halbleiterbauelemente. Dieses Inspektionssystem verwendet fortschrittliche photolithographische Techniken, um genaue zweidimensionale und dreidimensionale Bilder von winzigen Merkmalen mit hoher Empfindlichkeit zu liefern. MicroVal 343 Einheit ist in der Lage, sowohl Masken- als auch Wafer-Proben verschiedener komplexer Geometrien mit Auflösungen von bis zu 0.25um zu überprüfen. Das optische Abbildungswerkzeug der Maschine besteht aus einer hochauflösenden Panorama-CCD-Kamera und einer präzisen LED-Lichtquelle. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Merkmale, einschließlich Photolackmuster, KE-Profile und Hohlräume mit hoher Genauigkeit gemessen werden können. Die Software des Asset ermöglicht es dem Benutzer, Bilder zu erfassen, die auf verschiedene Weise analysiert werden können. Beispielsweise kann die Software Muster erkennen und identifizieren und gleichzeitig genaue Messungen eines bestimmten Merkmals auf der Probe bereitstellen. Darüber hinaus ermöglichen Software-Tools wie Kantenerkennung, OCR und Vergleichsfunktionen dem Benutzer, verschiedene Wafer für Abweichungen in ihren Strukturen und Funktionen zu vergleichen. Das Modell verfügt auch über einen automatischen Ausrichtungsmodus, der sicherstellt, dass alle Proben genau und stabil getestet werden, und sogar die Möglichkeit bietet, die Größe zu ändern und das Probenbild zu drehen, um die optische Ausrüstung ordnungsgemäß konfokal zu sein. Darüber hinaus verfügt BROWN&SHARPE MicroVal 343-System über die Möglichkeit, Funktionen bis zu 200um in der Größe zu erkennen, und mit seiner mehrfachen Lichtquellenkonfiguration kann es Funktionen sowohl im Reflexions- als auch im Übertragungsmodus untersuchen. Insgesamt bietet MicroVal 343 Mask & Wafer Inspection seinen Kunden ein präzises und zuverlässiges Werkzeug zur Inspektion, Validierung und Analyse komplexer Halbleiterbauelemente. Durch den Einsatz fortschrittlicher photolithographischer Techniken, um genaue zweidimensionale und dreidimensionale Bilder von winzigen Merkmalen mit hoher Empfindlichkeit zu liefern, leistete diese Maschine einen wertvollen Service in der Halbleiterindustrie.