Gebraucht CARL ZEISS AIMS 193 #293795556 zu verkaufen

ID: 293795556
Weinlese: 2004
Mask qualification system Control unit Reticle size: 6" Wavelength: 193 nm Measuring source: Laser Stage accuracy: ± 2 µm illumination: 1.5% CD Dynamic repeatability: 6 nm CD Static repeatability: 4 nm Operating system: Windows 2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage. Es ist mit einem hochauflösenden modularen Inspektionssystem ausgestattet, was es zur idealen Lösung macht, um höchste Qualität für die Photomasken zu gewährleisten, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. CARL ZEISS AIMS193 ist mit einem F-Theta-korrigierten Verzerrungskompensator ausgestattet, der dafür sorgt, dass der Abbildungsstrahl genau fokussiert und auf die Oberfläche der Maske ausgerichtet ist. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass die Maske vollständig überprüft und alle Mängel erkannt werden. Der Strahl hat auch eine einstellbare Punktgröße, was der Einheit Flexibilität für unterschiedliche bildgebende Anforderungen gibt. Die Maschine ist mit hochauflösenden Abbildungsoptiken ausgestattet, die Defekte bis zum Sub-Mikron-Niveau erkennen können. Die Optik ist sowohl für die Breitflächenabtastung als auch für die linienförmige Luftbildgebung ausgelegt. Diese Funktion ermöglicht eine schnelle und genaue Inspektion von Masken jeder Größe oder Struktur. AIMS 193 verfügt auch über einen Hochgeschwindigkeitsbereich von Belichtungseinstellungen, die schnelle Inspektionszyklen ermöglichen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Serien-Masken-Produktionslinien. Schließlich ist das Tool mit einem hochmodernen Fehlererkennungsalgorithmus ausgestattet, der in der Lage ist, auch die kleinsten Defekte zu identifizieren. Dieser Algorithmus ermöglicht es Ingenieuren, mögliche Fehler im Maskenproduktionsprozess schneller und genauer als je zuvor zu identifizieren. Zusammenfassend ist AIMS193 eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektion, die für die anspruchsvollsten Anwendungen entwickelt wurde. Es ist mit hochauflösender Optik und einem leistungsstarken Fehlererkennungsalgorithmus ausgestattet, so dass es Fehler bis zum Sub-Mikron-Niveau identifizieren kann. Seine Hochleistungsaussetzungseinstellungen machen es vollkommen für Großserienmaskenfließbänder, Ingenieuren die Genauigkeit und Flexibilität gebend, die sie der Fotomaskenproduktion der höchsten Qualität sichern müssen.
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