Gebraucht CARL ZEISS AIMS 193 #9196378 zu verkaufen
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ID: 9196378
Mask qualification system
With COHERENT LDU ESI 500 Hz, FT, 193 nm
KL2500 LCD Microscope standard illumination system
TUILASER ExciStar S-Industrial V2
HALCYONICS Control unit
PHOTOMETRICS Quantix KAF1400-G1-M, P/N: A97J6002
MARZHAUSER WETZLAR Kg Scan, 260 x 240 MSM, P/N: 90-24-009-0000
XC-73CE CCD Video module
TUI LASER MCB500.
CARL ZEISS AIMS 193 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung für Wafer Musterung und Fehlermanagement entwickelt. Es ist ein fortschrittliches bildgebendes System, das Submikron-Auflösungsbilder von Mustern auf Halbleitermaske und Wafern liefert. Die Abbildungseinheit erfasst digitale Bilder der Oberfläche der Maske/des Wafers und folgt deren Entwicklungsprozess. AIMS 193 ist mit mehreren Geräten wie Spektrograph, Mikroskop und Spalt ausgestattet. Mit diesen Komponenten ist es in der Lage, eine überlegene Bildauflösung von 0,1 - 0,2 um mit einem maximalen Gesichtsfeld von 512x8192 bereitzustellen. Neben der bildgebenden Hardware ist die Maschine auch mit Software ausgestattet, mit der Anwender Bilddaten verwalten und analysieren können. Die Software enthält ein Traceback-Tool, mit dem Benutzer Änderungswerte verfolgen können, und verfügt über erweiterte Imaging-Analysefunktionen. Es ermöglicht die Überprüfung von Fertigungs- und Ausrichtungsprozessen in Echtzeit. Darüber hinaus bietet die Software eine Vielzahl von Optionen für bildgebende Manipulation, einschließlich Kontrasteinstellung, Seitenverhältniseinstellung, Schärfeeinstellung, Schneiden und Objektextraktion. Das Asset verfügt auch über einen Touchscreen-Monitor für eine effiziente Navigation und Einrichtung. Es bietet Funktionen wie' zoom', 'pan', 'rotate', 'reverse', 'hue', 'Sättigung', 'rotation', 'label' und image' editing'. Darüber hinaus kann das Gerät auch hochauflösende digitale Bilder von Metallisierungsmerkmalen und Fehlern erfassen. Die Software kann dann verwendet werden, um die Bilder zu analysieren, um verschiedene Arten von Testergebnissen, 3D-Modellgenerierung, Tolerierung und Übersetzungen zu überprüfen. CARL ZEISS AIMS 193 ist ein fortschrittliches Inspektionsmodell zur Erkennung und Überwachung von Defekten an Halbleitermasken und Wafern. Dieses Gerät bietet überlegene Bildgebungsfunktionen von Submikron-Auflösungen sowie Werkzeuge zur Analyse und Manipulation. AIMS 193 ist mit seiner Kombination aus Hard- und Software ein effektives System für Fehlermanagement, Visualisierung und Fertigungsprozesse.
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