Gebraucht CARL ZEISS AIMS 248 #9251826 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9251826
System.
CARL ZEISS AIMS 248 ist eine automatisierte Inspektionsanlage für die Masken- und Waferinspektion mit revolutionärer Bildgebungstechnologie zur Bereitstellung modernster Präzision und Genauigkeit bei der Überprüfung und Bewertung von Masken- und Waferoberflächen. Dieses Inspektionssystem verfügt über eine einzigartige telezentrische Optikplattform, die eine überlegene Bildqualität bietet und dabei weniger als 1% der optischen Leistung und Zeit im Vergleich zu herkömmlichen Optiksystemen nutzt. Das Gerät enthält auch eine hochauflösende farbige CCD-Kamera, die in der Lage ist, Bilder mit einer erhöhten Schärfentiefe und unübertroffener Bildklarheit zu erfassen. Um den Inspektionsprozess weiter zu optimieren, enthält AIMS 248 eine automatisierte Fokuseinstellmaschine, die jede Fokusdrift identifizieren und korrigieren und punktgenaue Bildbewertungen einführen kann. Diese Funktion reduziert den Zeitrahmen für den Abschluss eines Inspektionsprozesses erheblich und ermöglicht eine schnellere Interpretation der Daten als je zuvor. Darüber hinaus bietet das Tool verschiedene Unterstützungsfunktionen, darunter integrierte computergesteuerte Wafer- und Maskenpositionssensoren zur Erkennung von Defekten und Positionsgenauigkeit bis zu 0,0001cm, dynamische Scan-Geschwindigkeitsanpassung und intuitive Datenanalysetools. CARL ZEISS AIMS 248 verwendet eine revolutionäre Mikroskopietechnik namens optische Profilometrie, die es ermöglicht, Dünnschichtoberflächenprofile, -formen und andere Oberflächenfehler mit höchster Genauigkeit zu messen. Dieses erweiterte Asset kann Oberflächenmängel und -fehler mit einer Auflösung von weniger als 50 nm erkennen und analysieren. Um seine Möglichkeiten weiter zu verbessern, verfügt das Modell über eine Vielzahl von Zubehörteilen wie einen laserbasierten Partikelzähler zur Messung von Dünnschichtpartikelpositionen, einen hochauflösenden Mikroskopieaufsatz zur detaillierten Analyse von Oberflächendefekten, ein Streuungsmesser zur Messung der Oberflächenreflektivität und einen variablen Einfallwinkel. Diese Eigenschaften haben AIMS 248 zu einem überlegenen Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion gemacht. Dieses Gerät bietet eine bemerkenswerte Bildgebungsleistung, erhöhte Genauigkeit und maximale Benutzerfreundlichkeit. Mit einer breiten Palette von Zubehör und anpassbaren Bildgebungsparametern ist CARL ZEISS AIMS 248 in der Lage, jede Inspektionsanforderung für High-End-Masken- und Wafer-Inspektionsprozesse zu erfüllen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor