Gebraucht CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9254199
Photomask repair system
For stepper, 193 nm
LITO Grade optics
VIS Microscope
Illumination unit
Interferometer stage
ArF Industrial grade
Excimer laser
Wavelength 193.4 nm
Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures
SMIF, 8"
Handler system
TUILASER ExciStar S-Industrial Laser
Excimer (Argon fluoride)
Wavelength: 193 nm
Embedded laser class IV
Laser class I
Pulsed
Wafer equivalent NA: >1
Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA
Sigma range: 0.3 - 0.98
Illumination type: circular and off axis
Linear polarization capability
Vector effect emulation capability
Through pellicle capability
Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle
Stepper reduction: 1:4
Measurement field: 10 x 10μm
Power supply: 400V
2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193i ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die in der Halbleiterproduktion eingesetzt wird. Dieses System soll Herstellern dabei helfen, mögliche Probleme innerhalb ihres Lithographieprozesses zu erkennen und anzugehen. Die Inspektionseinheit ist auf einer 33 „x 33“ Bühne mit einer telezentrischen optischen Maschine aufgebaut, die ein klares und wiederholbares Bild liefert. Es verfügt über einen LED-Beleuchter mit spektraler Beleuchtung, die Blendung zu reduzieren und den Kontrast zu verbessern hilft. Das Werkzeug verfügt über eine 193nm-Blende und eine hohe NA-Optik sowie eine 8-Megapixel-Kamera für hochauflösende Bilder. Es verfügt über eine automatisierte Vision-Asset, die schnelle Zykluszeiten ermöglicht und ist in der Lage, hohe Geschwindigkeit Muster Defekt Inspektion. AIMS 32-193i ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, die einen einfachen Zugang zu Modellfunktionen wie automatisiertem Fokus, Musterabgleich und Zeilenabtastprüfung ermöglicht. Es ist für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt, mit einer Fehlerrate von weniger als 1%. Dieses Gerät ist auch mit erweiterten Bildverarbeitungsfunktionen ausgestattet, um kleinste Unvollkommenheiten zu erkennen und fehlerfreie Wafer sicherzustellen. Das System ist mit einer breiten Palette von Analysetools ausgestattet, wie zum Beispiel einem umfassenden Satz von messtechnischen Funktionen. Die messtechnischen Werkzeuge liefern Informationen zur Mustergröße und -form sowie zur Überlagerung und Prozessgleichförmigkeit. Die Einheit kann auch Abstände zwischen Objekten auf dem Wafer mit hoher Präzision messen. Insgesamt ist CARL ZEISS AIMS 32-193i eine zuverlässige und leistungsstarke Inspektionsmaschine, die Halbleiterherstellern dabei helfen soll, ihren Lithographieprozess zu verbessern und fehlerfreie Wafer sicherzustellen. Es ist in der Lage, hohe Geschwindigkeit Muster Inspektion, und verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche für den einfachen Zugriff auf Werkzeugfunktionen. Es ist auch mit einem robusten Satz von messtechnischen Werkzeugen ausgestattet, die eine detaillierte Analyse von Mustern, Overlays und Prozessgleichförmigkeit bieten. Dieses Kapital ist wesentlich, um Halbleiterunternehmen bei der Herstellung hochwertiger Wafer zu unterstützen und sicherzustellen, dass ihre Produkte strengen Industriestandards entsprechen.
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