Gebraucht CARL ZEISS AIMS 32 #9293596 zu verkaufen

CARL ZEISS AIMS 32 ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die hochauflösende Bildgebung mit fortschrittlichen proprietären Algorithmen kombiniert. Dieses innovative System von einem der weltweit führenden Hersteller von Mikroskopen und wissenschaftlichen bildgebenden Systemen ist ideal für alle Arten von Substraten, einschließlich Photomasken, Glas, Keramik und Wafern. AIMS 32 wurde entwickelt, um eine schnellere und genauere Fehlererkennung als andere derzeit auf dem Markt befindliche Inspektionssysteme zu ermöglichen. Herzstück von CARL ZEISS AIMS 32 ist die CARL ZEISS OptiChrome Multilayer-Objektiveinheit. Diese Maschine verwendet eine Kombination aus breitbandiger achromatischer Optik und hochauflösender Bildgebung, um Schlüsselmerkmale jeder Probe zu erfassen. Ein Algorithmus zur Erkennung variabler Formmuster wird verwendet, um die Struktur der Probe zu analysieren und etwaige Anomalien zu erkennen. Sobald das Bild erfasst ist, kann das Tool sofort Fehler wie Kontaminationen, Prozessfehler und andere Unvollkommenheiten identifizieren. AIMS 32 enthält auch erweiterte Funktionen, um den Inspektionsprozess zu optimieren und die Genauigkeit der Ergebnisse zu verbessern. Das Asset ist einfach zu bedienen und kann schnell kalibriert werden, um verschiedene Probengrößen aufzunehmen. Die voll ausgestattete Software bietet Helfer auf dem Bildschirm „Assistent“ und automatisierte Modulsteuerung und kann bis zu 100.000 Bildsätze für einfachen Rückruf oder Vergleich speichern. Das Modell umfasst auch anspruchsvolle messtechnische Fähigkeiten, die zur genauen Messung und Aufzeichnung einer Vielzahl von Merkmalen entwickelt wurden, darunter Rauheit der Kanten, Linienbreiten, Kontaktlöcher und Fehlertopographie. So können Anwender potenzielle Produktionsprobleme schnell erkennen und ihre Prozesse modifizieren, um die Effizienz zu verbessern. CARL ZEISS AIMS 32 ist kompatibel mit gängigen Substraten nach Industriestandard und integriert sich nahtlos in bestehende Produktionssysteme. Die hochpräzise bildgebende Ausrüstung und das modulare Design machen es perfekt für jede Anwendung, einschließlich Photomasken- und Wafer-Mapping, Prozessentwicklung und -überwachung sowie Produktqualitätskontrolle. AIMS 32 Masken- und Wafer-Inspektionssystem ist eine innovative Lösung, um den Ertrag zu verbessern, Kosten zu senken und die Produktqualität in der Halbleiterindustrie zu maximieren. Dank seiner außergewöhnlichen bildgebenden Funktionen und der automatisierten Datenanalyse ist es die perfekte Wahl für jede Masken- oder Waferinspektionseinheit.