Gebraucht CARL ZEISS / HSEB MIT300 #293639397 zu verkaufen

CARL ZEISS/HSEB MIT300 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochmodernes System, das speziell für die Fehlererkennung entwickelt wurde. Mit einer schnell abtastenden optisch adaptiven Einheit ist HSEB MIT300 in der Lage, auch die kleinsten Fehler mit beispielloser Genauigkeit und Ebenheit Vergleich zu erkennen. Die Maschine enthält einen 16-Megapixel-Kopf, der eine Aufnahme mit einer maximalen Bildrate von bis zu 5000 Bildern pro Sekunde aufnimmt und somit für Hochgeschwindigkeits-Scananwendungen gut geeignet ist. Die Kamera enthält außerdem eine Pixelgröße von 8,3 µm und einen Dynamikbereich von 72 dB. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über die Fähigkeit, Intralithographie- und Overlay-Messungen durchzuführen, die höchste Werte für die Gleichmäßigkeitsmessung der Waferproduktion bieten. Zum Asset gehört auch ein 4 "proprietäres optisches Modell, das aus einer planaren Phasenoptik mit einem Vollbildfeld besteht. Das Gerät wird auch mit fortschrittlichen Bildanalyse-Algorithmen geliefert, die eine zuverlässige und schnelle Inspektion von Masken- und Waferdefekten ermöglichen. Darüber hinaus verfügt es über ein integriertes X/Y-Bühnensystem zur schnellen und einfachen Positionierung und Inspektion von Wafern im Scanbereich. Darüber hinaus ist das Gerät aufgrund seiner robusten mechanisierten Stufen weniger anfällig für Umgebungsvibrationen aus externen Quellen, was eine höhere Genauigkeit des Scans im Vergleich zu anderen Systemen auf dem Markt ermöglicht. Um maximale Produktivität zu gewährleisten, wird die Maschine mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberflächensoftware betrieben, die auf die spezifischen Bedürfnisse der Masken- und Waferinspektion zugeschnitten ist. Die Software kommt mit einer Reihe von integrierten Fehleranalyse und Review-Tools, wie DICE-Bildverbesserung, Sub-Micron Overlay-Messungen, anpassbaren Grenzpfad für Pass oder Fail Klassifizierung und vieles mehr. Darüber hinaus bietet es Echtzeit-Waferanalyse und Fehlerinspektionsfunktionen, einschließlich der automatischen Erkennung von Fehlern, der algorithmischen Fehlererkennung und der falschen Fehlererkennung. Das Werkzeug entspricht den ISO und SEMI Standards und ermöglicht eine schonende Handhabung von Wafern und Masken. Die Anlage arbeitet zudem umweltfreundlich mit ihrem geringen Strombedarf. Es verfügt über eine große Auswahl an Optionen und Hardware, wie einen optischen Kopf für ASML- und 193i-Scan-Systeme, optionale automatisierte Berichterstellung, maßgeschneiderte Softwarelösungen und vieles mehr. Insgesamt ist CARL ZEISS MIT300 Mask & Wafer Inspection Model eine High-End-Ausrüstung, die modernste Inspektionsmöglichkeiten bietet. Das fortschrittliche optische System, die integrierte Software und zahlreiche zusätzliche Optionen machen es zu einer idealen Wahl für die heutigen anspruchsvollen Anforderungen bei der Fehlererkennung.