Gebraucht DATAPHYSICS OCA 40 #293607248 zu verkaufen

DATAPHYSICS OCA 40 Mask & Wafer Inspection Equipment ist für die präzise Messtechnik von Masken und Wafern konzipiert. Es bietet hochauflösende Bildgebung mit Datenerfassung und Analyse von Oberflächenmerkmalen zur Qualitätskontrolle in der Halbleiterherstellung. Das System besteht aus einem Bewegungs- und Steuerungs-Subsystem bestehend aus einer Durchgangslinse, laserbasierter, 3D-Positions- und Dimensionsmesstechnik, einer präzise motorisierten Zoomeinheit und mit Trans- „Z“ -Steuerungen und Luftlagerstufen, Hochgeschwindigkeitsprüfbewegungen. Das optische Teilsystem verfügt über integrierte Videoerfassungs-, Datenerfassungs- und Analysefunktionen sowie die Verwendung einer Beleuchtung mit hohem Dynamikbereich. Die bildgebende Maschine ist mit einer Vielzahl von Objektiven ausgestattet, die ein niedriges bis hohes Vergrößerungsverhältnis ermöglichen und eine breite Palette von bildgebenden Parametern ermöglichen, einschließlich Sichtfeld, Abtastabstand, Pixelauflösung und Spektralbereich. Das integrierte Analysetool bietet Datenanalysefunktionen wie automatische Fehlererkennung und -erkennung (ADF-R), Finite-Elemente-Modellierung, automatische Profilverfolgungspixelzählung, Flächenmessung und -korrelation sowie 3D-Koordinatenbasierte Registrierung. Das Asset verfügt zudem über automatisierte Messwerkzeuge wie Brillen- und Maskenschichten-Messtechnik. Das Modell wurde entwickelt, um schnelle, präzise und wiederholbare Messungen bereitzustellen, die schnellere Überprüfungen und genauere Qualitätssicherungs- und Ertragsentscheidungen für Waferhersteller ermöglichen. Es ist sehr flexibel und bietet Benutzern die Möglichkeit, angepasste Parameter anzupassen und mehrere Aufzeichnungsformate für die Datenerfassung zu verwenden. OCA 40 unterstützt eine breite Palette von Bildanalyse-Algorithmen und nützlichen Mustererkennungsfunktionen, so dass Benutzer potenzielle Fehler erkennen und die Notwendigkeit reduzieren können, eine große Anzahl von Masken und Wafern manuell zu überprüfen. Das Gerät wird in einem tragbaren Formfaktor angeboten und kann mit anderen Produktionsanlagen synchronisiert werden. Insgesamt bietet das DATAPHYSICS OCA 40 Mask & Wafer Inspection System effiziente, hochgenaue und wiederholbare Messungen, Fähigkeiten und Funktionen für die Inspektion und Inspektion von Masken und Wafern und ist damit ein ideales Werkzeug für die Qualitäts- und Produktionskontrolle in der Halbleiterindustrie.