Gebraucht DEXON CLL 6436 #108363 zu verkaufen

DEXON CLL 6436 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Es bietet hochauflösende Bildgebung und flexible Workflow-Funktionen zur schnellen und genauen Erkennung von Defekten auf verschiedenen Wafer- und Maskensubstraten. Das System ist mit einer robusten 64-Kanal Linear Laser (CLL) Beleuchtungsquelle ausgestattet, die eine dynamische Modulation der Laserausgangsintensität und ein schnelles Umschalten zwischen bildgebenden und Laserinspektionsmodi ermöglicht. Dies gewährleistet eine optimale Probenbeleuchtung für eine qualitativ hochwertige Bildgebung und laserinduzierte Fehlererkennung, um die anspruchsvollsten Anforderungen an die Prozesskontrolle zu erfüllen. CLL 6436 ist auch mit einer hochempfindlichen, fest fokussierten wissenschaftlichen ladungsgekoppelten Geräteabbildungseinheit (CCD) ausgestattet. Diese verfügt über ein 2/3-Zoll-Farb-progressives CCD-Array, das eine hochauflösende Bildgebung bis zu einer Pixelgröße von 1um ermöglicht. Die Kamera kann sowohl Bildqualitätsinformationen erfassen als auch schnell Daten erfassen, die für schnelle Wafer-Analyseaufgaben benötigt werden. Die Maschine ist darauf ausgelegt, die gesamte Oberflächentopologie zu überprüfen, so dass Defekte, Hohlräume, Partikel und andere Fehler schnell erkannt werden können, was die Vakuumfilter weiter vereinfacht. Sein 5-achsig motorisiertes XY-Bühnenwerkzeug ermöglicht ein schnelles und genaues Scannen von Masken für effektive Verschlusszeit und Maskenausrichtung. Die robuste Software ermöglicht verschiedene Rezeptaufbaufunktionen und Datenexport-Funktionen. Das einzigartige DEXON Analytical Toolkit, das Schwellenwerte für Farbpixel und Bildfilterung beinhaltet, bietet eine automatisierte Bildanalyse, um alle unnötigen Details, Hintergründe und Geräusche zu entfernen und gleichzeitig Funktionen zu behalten, die für das Bild von Interesse sind. Insgesamt ist DEXON CLL 6436 eine innovative Masken- und Wafer-Inspektion, die für die anspruchsvollsten Inspektionsaufgaben entwickelt wurde. Seine hochauflösende Bildgebungsfähigkeit und intelligente Software machen es zu einem idealen Modell für die Erkennung und Interpretation von Defekten auf verschiedenen Masken- und Wafersubstraten.