Gebraucht ESI / MICROVISION 3900 #9255776 zu verkaufen

ESI/MICROVISION 3900 ist eine komplette Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die präzise Bildgebung, fortschrittliche Fehlerüberprüfung und detaillierte Datenanalysen kombiniert, um die robuste Fehlererkennung und -klassifizierung zu ermöglichen, die für fortschrittliche Halbleiterprozesse erforderlich ist. Dieses System nutzt fortschrittliche Optik, intelligente Algorithmus-Technologie und eine breite Palette von digitalen Bilderfassungs- und Analysetools, um eine schnelle und zuverlässige Inspektion von Masken und Wafern zu ermöglichen. Die Maske und der Wafer werden von der automatisierten hochauflösenden Objektiveinheit ESI 3900 gescannt. Die Objektivmaschine verfügt über eine tragbare Kamera mit manuellem oder automatischem Zoom, Fokus und Belichtungseinstellung. Dies hilft, die Bildvergrößerung sowohl für die Masken- als auch für die Waferinspektion zu optimieren. Es verfügt auch über einen Onboard-Monitor, der die Bilder in verschiedenen Modi zur schnellen Fehlerbestimmung anzeigt. MICROVISION 3900 bietet Hochgeschwindigkeits-Masken- und Wafer-Inspektion mit digitalen Bildgebungstechniken und fortschrittlichen Fehlererkennungsalgorithmen. Dadurch kann das Werkzeug kleine, schwer erkennbare Fehler schnell und genau lokalisieren. Es kann sogar Fehler bei mehreren Vergrößerungen erkennen, so dass Ingenieure schnell die störungsanfälligsten Abschnitte eines bestimmten Produkts finden. 3900 ist mit fortschrittlichen Wafer-Inspektionsmöglichkeiten entworfen. Es analysiert schnell und genau die gesamte Palette der Wafer-Layout-Features, von grob bis ultra-fein. Es kann auch Lithographiefehler, Partikel und Kontamination, Widerstand und Oberflächentopographie untersuchen und erkennen. ESI/MICROVISION 3900 nutzt eine flexible grafische Benutzeroberfläche, einstellbare Workflows und leistungsstarke Bildanalysetools, um die Datenverarbeitung zu optimieren. Es unterstützt auch erweiterte Automatisierungsoptionen wie programmierbare Datenspeicherung und -abfrage, automatisierte Fehlererkennung und Fehlerklassifizierung. Dadurch entfällt das Wiederanschalten großer Bilder und es wird eine schnelle und präzise Fehlerklassifizierung ermöglicht. Insgesamt ist ESI 3900 eines der zuverlässigsten und effizientesten derzeit verfügbaren Masken- und Wafer-Inspektionssysteme. Es eignet sich gut für fortschrittliche Halbleiterprozesse, die eine Hochgeschwindigkeits-Hochauflösung erfordern. Seine Fähigkeiten ermöglichen es Ingenieuren, schwer erkennbare Fehler schnell zu finden und die Effizienz ihrer Produktionsprozesse zu optimieren.