Gebraucht ESI / MICROVISION 3900 #9255783 zu verkaufen

ID: 9255783
Weinlese: 1994
IC Mark / Lead inspection system 1994 vintage.
ESI/MICROVISION 3900 ist eine innovative Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für fortgeschrittene Halbleiterbauelementehersteller. Das System besteht aus zwei Komponenten: einem digitalen hochauflösenden Abbildungsmikroskop und einer automatisierten Bildanalyseplattform. Die Mikroskopkomponente von ESI 3900 ist mit einer fortschrittlichen Optik ausgestattet, die ein einzigartiges 5x-Zoomobjektiv umfasst, das die Erfassung extrem detaillierter Bilder auch der kleinsten Masken- oder Waferfunktionen ermöglicht. Eine Festkörper-CCD-Kamera, eine fortschrittliche digitale Signalverarbeitungsschaltung und eine integrierte elektronische Steuereinheit runden den Mikroskopaufbau ab. Darüber hinaus ist die Mikroskopstufe so konzipiert, dass sie jede Größe oder Form des Substrats aufnimmt und somit äußerst vielseitig einsetzbar ist. Die Bildanalyseplattform von MICROVISION 3900 wird von einem leistungsstarken proprietären Algorithmus angetrieben, der alle Fehler in den aufgenommenen digitalen Bildern automatisch erkennt und dokumentiert. Dieser Algorithmus wird durch eine Benutzeroberfläche ergänzt, die eine größere Kontrolle über den Analyseprozess ermöglicht. Die Ergebnisse der Analyse können auf verschiedene Weise angezeigt werden, z. B. in einem ADC-Bildformat für eine schnelle visuelle Bewertung oder in einem detaillierteren CSV- oder XML-Format für eine tiefergehende Analyse. Neben den Möglichkeiten der Masken- und Wafer-Inspektion verfügt 3900 auch über mehrere weitere erweiterte Funktionen. Seine verbesserte Bildnahtfunktionalität ermöglicht die Erzeugung hochauflösender Bilder auf breitem Sichtfeld. Die Maschine verfügt zudem über einen Hochgeschwindigkeitspartikel- und Kristallzählmodus, der sicherstellt, dass Kristallphonologiefehler schnell und genau erkannt und dokumentiert werden können. ESI/MICROVISION 3900 ist ideal für Halbleiterbauelementehersteller, die fortschrittliche, hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten benötigen. Die leistungsstarken Bildanalyse-Algorithmen, die benutzerfreundliche Oberfläche und die vielseitige Konstruktion machen es zu einer idealen Wahl für moderne Industrielabore.
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