Gebraucht ESTEK / KODAK WIS-850 II #168347 zu verkaufen

ESTEK/KODAK WIS-850 II ist eine Vollrahmen-Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Herstellung von Prozesskontrollen. Es bietet eine schnelle und zuverlässige Inspektion von Photomasken und Wafern für quantitative und qualitative Analysen. Es kann eine breite Palette von Defekten erkennen, von Produktionsprozess bezogene Defekte zu Maske/Wafer Herstellung Defekte, einschließlich: Partikel von Partikeln, Pinholes, Körner und Kohlenstoffreste. ESTEK WIS-850 II Inspektionssystem kombiniert hochauflösende optische Long Working Distance Microscopes (OLWDMs) und fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen. Die Bildaufnahmeeinheit erfasst Wafer und Masken im vollen Sichtfeld mit einer Bildauflösung von 3,5um/Pixel. Durch eine GUI-basierte Bedienung kann der Benutzer problemlos automatische Masken-/Wafer-Inspektionsläufe einrichten, Betriebsparameter konfigurieren und Ergebnisse überprüfen. Die Messungen von Topographie, CD und Fehlergröße und -form können mit dem Echtzeit-Analysemodul durchgeführt werden, das alle Wafer- und Maskenfehler innerhalb vorgegebener Abnahmeregeln sucht und klassifiziert. Die Maschine bietet sowohl statische als auch dynamische Ausrichtungsoptionen. Bei der statischen Ausrichtung werden Sollwerte überprüft, um die Suchzeit zu reduzieren und die Ausrichtungsgenauigkeit zu verbessern. Bei der dynamischen Ausrichtung verwendet das Inspektionswerkzeug Mustererkennung und passende Algorithmen, um Masken und Wafer automatisch in Echtzeit auszurichten. KODAK WIS-850 II ist auch mit spezieller Software für kontrastreiche optische Inspektion konzipiert, die einen vollautomatischen Inspektionsansatz für die Großserienfertigung und Chargenprozesssteuerung bietet. Darüber hinaus verfügt das Asset über Selbstkalibrierung und Autofokus-Funktionen zur Anpassung für die Alterung von Maschinen und kann Verzerrungen in Mustern und Einheiten während des Bilderfassungsprozesses erkennen und messen. Seine erweiterten Bewegungs- und Beleuchtungssteuerungsfunktionen stellen sicher, dass alle Fehlerinformationen sowohl im hellen Feld als auch im Dunkelfeld genau erfasst werden. WIS-850 II-Modell bietet zuverlässige Leistung und hohe Durchsatzrate. Es ist einfach zu bedienen, mit intuitiven Tools und Bedienelementen, die es dem Benutzer ermöglichen, einen Produktionsablauf schnell einzurichten und den Inspektionsprozess zu optimieren. Mit seinen hochauflösenden Bildern und automatischen Fehlerinspektionsmöglichkeiten ist es eine ideale Wahl für die Steuerung von Photomaske- und Waferproduktionsprozessen.