Gebraucht ESTEK WIS-850 #293595284 zu verkaufen

ESTEK WIS-850
ID: 293595284
Wafer defect inspection system.
ESTEK WIS-850 ist eine fortschrittliche Vision-basierte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um Hochleistungs-Inspektions- und Überprüfungsfunktionen für Masken- und Waferbilder bereitzustellen. Das System kombiniert hochauflösende CCD-Kameratechnologie mit ausgefeilten Bildverarbeitungsalgorithmen, um Fehler in Materialien und Strukturen, die in der Mikroelektronik verwendet werden, schnell zu untersuchen und zu erkennen. WIS-850 ist in der Lage, Strukturen und Merkmale im Nanometermaßstab auf Wafern und Masken zu überprüfen. Es kann Linienmuster, Funktionsgrößen, Defekte, Filmdicke, Fotolackfunktionen und CD-Ungleichförmigkeiten identifizieren. Das Gerät verfügt über eine hohe Fokustiefe für eine genaue 3D-Bildprofilmessung und kann eine Mehrfeldverifizierung integrieren, um die Prüfsicherheit zu gewährleisten und Ertragsverluste zu reduzieren. Die Maschine verwendet einzigartige Inspektionsalgorithmen zur Fehlererkennung, Bilderkennung und Musteranpassung. Es kann Oberflächenfehler erkennen, einschließlich Pinholes, hydrophile oder hydrophobe Defekte, die durch schlechte Beschichtungen und Verunreinigungen verursacht werden, sowie Oberflächenverformungen, die durch Luftspalte verursacht werden. Es verfügt auch über eine vollständige Reihe von Datenreduzierungs- und Anzeigefunktionen, um eine zuverlässige datengesteuerte Fehleranalyse zu ermöglichen. Das Modul zur statistischen Qualitätskontrolle (SQC) des Tools ermöglicht es Benutzern, Testergebnisse mit Zielwerten zu vergleichen, die Prozessleistung zu überwachen und einen Echtzeitbericht zu erstellen, der die Korrelation zwischen Produktqualität und Prozessleistung hervorhebt. Das Modul ermöglicht auch eine dynamische Multi-Parameter-Prüfung und Kategorisierung von Fehlern sowie ein Vergrößerungslinsen-Überwachungswerkzeug. ESTEK WIS-850 verfügt zudem über eine hochgenaue Wafer-Inspektionsfunktion, die eine schnelle Überprüfung von Gerätestrukturen ohne individuelle Masken- und Waferbilder ermöglicht. Es verfügt auch über eine automatisierte Partikelerkennung und Klassifizierung, die Partikelgröße, Dichte und Form für die frühe Werkzeugzustandsüberwachung identifizieren kann. Das Modell enthält auch ein Strahl-De-Skiver-Modul zur Reduzierung der Wiederholungsinspektion sowie erweiterte optische Inspektionsalgorithmen zur genauen Fehlerklassifizierung von 1D- und 2D-Mustern. WIS-850 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung bestehend aus anspruchsvollen Hardware- und Softwarekomponenten, die Prozess- und Qualitätskontrollverluste reduzieren. Die robusten Inspektions- und Überprüfungsfunktionen des Systems bieten Anwendern eine verbesserte Erkennung von Defekten, Genauigkeit für die 3D-Bildprofilmessung, Multi-Parameter-Tests, Partikelerkennung und -klassifizierung sowie optische Inspektionsalgorithmen.
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