Gebraucht FAMECS FRNB-750SA-8E-SV #9259382 zu verkaufen

FAMECS FRNB-750SA-8E-SV ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine effiziente und genaue Bewertung der Halbleiteranwendung ermöglicht. Das System ist vielseitig einsetzbar mit Funktionen wie einer hochauflösenden Kamera, automatischer Fokus- und Rahmenverschmelzung und einer Multipositionslichtquelle. Das Gerät ist in der Lage, mit seiner hochauflösenden CCD-Kamera und Lichtquellenkombination Bilder sowohl von Masken als auch von Wafern mit hoher Genauigkeit zu erfassen. Die CCD-Kamera ist in der Lage, 4.000x Vergrößerungsbilder von Masken- und Wafermustern mit einer Auflösung von bis zu 10µ (Mikrometer) aufzunehmen. Die CCD-Kamera kombiniert mit einem spezialisierten Objektiv mit Autofokus- und Frame-Fusionsfunktionen zur Abbildung schwieriger Geometrie wie CDs (kritische Dimensionssubstrate). Die Maschine ist auch mit einer Multi-Position-Lichtquelle ausgelegt, um die Bilderfassung aus verschiedenen Winkeln zu erleichtern. Dies ist besonders nützlich, um schwierig zu erfassende Funktionen auf den Masken und Wafern aufzudecken, wie z. B. abgewinkelte Abschrägungen oder tief geätzte Muster. Der Vorteil dieser Multi-Position-Lichtquelle ist eine größere Vollständigkeit und Genauigkeit in aufgenommenen Bildern, aufgrund einer Vielzahl von Betrachtungswinkeln überprüft. Darüber hinaus wird die Masken- und Wafer-Inspektion durch die Möglichkeit, schnell aus verschiedenen Winkeln in einem Rahmen erfasst überprüfen effizienter. Das Tool ist benutzerfreundlich mit einem intuitiven Bild-Feedback-Panel. Es enthält eine Vielzahl von Bildern und trendbasiertes Feedback und Statistiken, wie min/max Intensität, Gesamtzahl der Pixel, etc. Dieses Bedienfeld ermöglicht es Benutzern, die von der CCD-Kamera erhaltenen Bilder zu überprüfen, zu überprüfen und zu validieren. Das Gut hat auch die Fähigkeit, Fehleranalysen von Schaltungsmustern mit seinen Mess- und Beurteilungsfunktionen durchzuführen. Benutzer können die Qualität der Schaltungsmuster schnell beurteilen und validieren, indem sie min/max Größe jedes Musters, Prozentsatz der Flächengröße jedes Musters oder andere statistische Merkmale berechnen. FRNB-750SA-8E-SV Masken- und Wafer-Inspektionsmodell wurde entwickelt, um Benutzern eine leistungsstarke und effiziente Ausrüstung zur Verfügung zu stellen, die mit seiner hochauflösenden CCD-Kamera und der Kombination aus Multipositionslichtquellen hochwertige Bilder von Masken und Wafern aufnimmt. Die intuitive Bildrückmeldung und Fehleranalysefunktionen machen die Inspektion und Validierung zu einem schnellen und effizienten Prozess. Es ist eine großartige Lösung für Anwender, die ihre Halbleiteranwendungen genau und schnell auswerten müssen.