Gebraucht GRAHAM OPTICAL FP-2X #9071325 zu verkaufen

GRAHAM OPTICAL FP-2X Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine Inspektionsplattform der nächsten Generation, die hervorragende Leistungsergebnisse für die Inspektion von Masken und Wafern liefert. Dieses System bietet mehrere erweiterte Funktionen wie hochauflösende Bildgebung, einen Vollbild-Scan-Modus, mehrere Beleuchtungen, automatisierte Bildoptimierung und ein automatisiertes Fokus-Tracking-Modul. Das hochauflösende Bildverarbeitungsmodul ermöglicht es Benutzern, auf einem viel feineren Niveau als bisher zu inspizieren, wodurch kleine Funktionen sowohl auf Wafern als auch auf Masken erkannt werden können. Der Vollbild-Scan-Modus ermöglicht es Benutzern, schnell über einen ganzen Wafer oder eine Maske zu ziehen, während die mehreren Beleuchtungen kontrastreiche Bilder und Bilder in den sichtbaren und infraroten Spektren liefern. Die automatisierte Bildoptimierungsfunktion ermöglicht es Benutzern, Funktionen auf Wafern und Masken anhand von Größe, Dichte und Kontrast schnell zu identifizieren und zu kategorisieren. Diese Funktion hilft, die manuelle Inspektionszeit zu reduzieren und den Durchsatz zu verbessern. Das automatisierte Fokus-Tracking-Modul bietet eine verbesserte Genauigkeit beim Scannen von Wafern und Masken und bietet präzise Fokussierung für beide. FP-2X Mask & Wafer Inspection Unit bietet überlegene Leistung und Genauigkeit für Masken- und Wafer-Inspektionen. Mit seinen modernsten Funktionen, einschließlich hochauflösender Bildgebung, Vollbild-Scanmodus, Mehrfachbeleuchtung, automatisierter Bildoptimierung und automatisiertem Fokus-Tracking-Modul, setzt diese Maschine einen neuen Standard für Masken- und Wafer-Inspektionssysteme.