Gebraucht HENNECKE He-WI-03 #9071444 zu verkaufen

HENNECKE He-WI-03 ist ein Mask & Wafer Inspektionsgerät für optische Mustermessanwendungen. Sein hochauflösender Bildsensor erzeugt eine hervorragende Bildqualität, sodass Forscher und Ingenieure Maskenbilder genau überprüfen und die Fehlerpositionierung auswerten können. Das System verfügt über ein kompaktes Design mit einem einzigen Mikroskop, einer angepassten CCD-Kameraeinheit und einer Positioniermaschine. Das Mikroskop erfasst hochauflösende Bilder mit bis zu 64x Vergrößerungsbereich und kann auf Wafer von 0,5 mm bis 3,5 mm Größe eingestellt werden. Dieser präzise Zoom- und Fokusbereich macht es ideal, um detaillierte Bilder von Wafermustern mit hoher Genauigkeit zu erfassen. Das Kamera-Tool ist mit einem erweiterten ladungsgekoppelten Gerät (CCD) ausgestattet und kann Bilder mit bis zu 5 Megapixeln mit zwölf Bit verbesserter Farbtiefe aufnehmen. Es verfügt auch über ein erweitertes Bildverarbeitungsobjekt, mit dem Benutzer Bilder auf bestimmte Fehler untersuchen und die Fehlerpositionierung genau bestimmen können. Die Positioniereinrichtung des Modells ermöglicht nicht nur eine präzise Waferbildaufnahme, sondern unterstützt auch die automatisierte Platzierung der Maskenbilder im Mikroskop. Dadurch wird sichergestellt, dass die im Mikroskop platzierten Bilder korrekt auf die Maske ausgerichtet sind, wodurch Anwenderfehler beseitigt und die Messungen vereinfacht werden. He-WI-03 ist auch mit spezieller Software integriert, mit der Benutzer Kundenmaskenbilder mit intern erzeugten Masken und Fehlerbildern vergleichen können. Darüber hinaus ermöglicht die Software es Benutzern, Fehlerstandorte und -verteilung im Bild zu visualisieren und die Genauigkeit des Inspektionsprozesses zu erhöhen. Das System liefert genaue und zuverlässige Daten und eignet sich sowohl für den Inline- als auch für den Offline-Einsatz. Mit seiner verbesserten Bildleistung und benutzerfreundlicher Software ermöglicht HENNECKE He-WI-03 die einfache Erkennung und Analyse von Waferdefekten.