Gebraucht HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9309099 zu verkaufen

HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP
ID: 9309099
Wafergröße: 12"
E-Beam inspection system, 12".
HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine umfassende und kostengünstige Lösung für fortschrittliche Prozesssteuerung und Ausbeute-Optimierung in der Halbleitermikro- und Nanoelektronik-Fertigung bietet. Es bietet die Möglichkeit, Fehler sowohl in ein- und mehrlagigen Masken als auch auf Standard- und hocheffizienten Wafern zu erkennen. HMI eP3 XP verfügt über eine Sammlung kleiner Sichtfelder (FOVs), die die gesamte Probe abdecken. Dadurch wird sichergestellt, dass das Sichtfeld für die Masken- und Waferinspektion für alle Stufen des Herstellungsprozesses geeignet ist. Dieses System ist mit zwei integrierten CCD-Kameras ausgestattet - eine für die Beleuchtung mit nicht sichtbarem Licht und eine für die Beleuchtung mit sichtbarem Licht zur vollständigen optischen Abdeckung der gesamten Probe. Es verfügt auch über eine Bildvorverarbeitungsmaschine, um Hintergrundgeräusche herauszufiltern und Schatteneffekte zu reduzieren, sowie eine Mustererkennungssoftware, um die feinsten Fehler bis zum Sub-Mikron-Niveau zu erkennen. Das Gerät wurde entwickelt, um mit einer Vielzahl von Substraten zu arbeiten, darunter Silizium, Saphir, Quarz und Polysilizium. Es prüft eine Reihe von Oberflächen mit automatisierter Präzision, einschließlich flach, gebogen und 3D. HERMES MICROVISION eP3 XP ermöglicht eine schnelle und präzise Inspektion von Masken, Wafern und Substraten mit minimalem manuellen Eingriff. Es liefert zuverlässige und konsistente Ergebnisse, und seine fortschrittlichen optischen und Bildverarbeitungsalgorithmen sichern maximale Prozesserträge und reduzieren kostspielige Fehler und Ausschuss. Die Maschine umfasst auch einfach zu bedienende Software für automatisierte Datenanalyse und Reporting. EP3 XP kann in Unternehmenssoftwaresysteme und Datenserver integriert werden, um eine effiziente Übertragung von Inspektionsergebnissen zu ermöglichen. Es enthält erweiterte Funktionen wie Standortzuordnung, Beispiel einer Zuordnung und Musterverfolgung und unterstützt eine Vielzahl von Sprachen. HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP ist ein äußerst zuverlässiges und effizientes Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug mit minimalem Platzbedarf. Es kann große Mustergrößen und komplexe Layouts mit konsistenter Genauigkeit und Präzision handhaben, während seine intuitive Steuerung es einfach zu bedienen macht. Seine Eigenschaften und Leistung machen es zu einer geeigneten Wahl für Halbleiterhersteller, die eine fortschrittliche Qualitätssicherung und Prozessoptimierung suchen.
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