Gebraucht HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9389782 zu verkaufen

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP ist ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem zur dynamischen und umfassenden Nachbearbeitungsanalyse der Gerätetopographie. Das Gerät bietet eine umfassende Lithographie-Prozesssteuerung durch Echtzeitinspektion und Überwachung von Defekten und Prozessvariablen während des gesamten Wafer-Herstellungsprozesses. HMI eP3 XP bietet ein umfassendes Set an fortschrittlichen Lithographie-Tools wie Inspektion von Masken- und Wafer-Topographie sowie Ausrichtung, Fokus und Messung. Die Maschine verfügt über eine hohe Vergrößerung für optisch dichte Masken sowie fortgeschrittene Retikel und Sichtfelder für präzise Überlagerungsmessungen. Es bietet auch Hochgeschwindigkeits-Bildaufnahmen, die Bilder bis zu 90 Bilder pro Sekunde präzise aufnehmen können, ohne die Leistung zu beeinträchtigen. Die HERMES MICROVISIONHERMES MICROVISION eP3 XP verfügt über ein neuartiges Inspektionswerkzeug, das die Bildgebung und Laserabtastung von ladungsgekoppelten Geräten (CCD) verwendet, um genaue und konsistente Messungen zu erhalten. Das äußerst zuverlässige und effiziente Design der Anlage bedeutet, dass die Ergebnisse wiederholbar sind und auch in anspruchsvollen Umgebungen vertrauenswürdig sind. Das Modell enthält auch eine Reihe von Tools wie Auto-Zoom, KE-Finder und Mustererkennung, die verwendet werden, um Probleme schnell zu erkennen und Lösungen vorzuschlagen. Darüber hinaus ermöglicht eP3 XP Fehleranalysen und Overlay-Messungen auf einem gescannten Wafer-Muster. Die Ausrüstung ermöglicht eine automatisierte Wafer-Musterinspektion, einschließlich Oberflächen- und Volumenscans. Das Modul zur Musteranalyse kombiniert Scanbilder mit CAD-Daten, um mögliche Fehler zu erkennen und Probleme zu beheben, bevor sie auf der Schaltung sichtbar werden. Schließlich bietet das System eine robuste Messkonsole, die eine große Datenmenge verarbeiten kann und verbesserte Rauschreduzierungsalgorithmen und Bildanalysetools bietet. Abschließend ist HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die eine leistungsstarke Lithographie-Prozessinspektion und -kontrolle bietet. Die Maschine bietet fortschrittliche Optik- und Bildgebungsfunktionen sowie automatisierte Analyse- und Datenverarbeitungsfunktionen, um Wafertopographie genau und zuverlässig zu messen und mögliche Fehler zu erkennen und zu beheben.