Gebraucht HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9389783 zu verkaufen

HERMES MICROVISION/HMI eP4 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die mit modernster Bildgebungstechnologie für hochpräzise Nanotech-Anwendungen entwickelt wurde. Dieses System bietet eine umfassende Inspektionslösung, die Defekte und Anomalien auf Mikroniveau erkennen kann. Die integrierten Eigenschaften der Ausrüstung ermöglichen eine effiziente und schnelle Fehleranalyse von Halbleiterscheiben und -masken, wodurch höhere Erträge in der Produktion erzielt werden können. Das Gerät sieht eine breite Palette von Anwendungen in fortschrittlichen Halbleiterherstellung und Chip-Design einschließlich 3D-und Flip-Chip-Gehäuse Inspektion, Mikrofluidik-Gerät Inspektion, Maskeninspektion, und vieles mehr. Die Maschine wurde mit ultrakurzer Mehrwellenlängenbeleuchtung und variabler Optik gebaut und ermöglicht ultrahohe Kontrastabbildungen, die die Erkennung sehr kleiner und schwer erkennbarer Fehler ermöglichen. Die Optik des Werkzeugs ist mit einem entkoppelten Objektiv- und Projektionsobjekt, einem Fokusobjektiv und einer automatisierten Fokusfolgefähigkeit ausgestattet, die ein weites Sichtfeld und eine überlegene Bildtiefe bietet. Mit seiner fortschrittlichen Optik ermöglicht das Modell hochauflösende Bildgebung und Bildverbesserung für bis zu 10x Vergrößerung. Darüber hinaus ist das Werkzeug auch in der Lage, Tieftöner/Hochtöner Beleuchtungstechnik, bietet dynamische Bereichsänderung und ein besseres Signal-Rausch-Verhältnis. Die Benutzeroberfläche der Geräte ist für einfache Navigation und Bedienung ausgelegt. Es enthält ein intuitives Touchscreen-Display mit anpassbaren Menüs, um auf alle Funktionen und Optionen zuzugreifen. Ein am Eingabegerät montierter Joystick ermöglicht eine einfache Manipulation der optischen Ansicht und der Steuereinstellungen. Das System ist auch in der Lage, Proben sowohl im Hellfeld- als auch im Dunkelfeldmodus abzubilden und bietet eine hervorragende Flexibilität. HMI eP4 Gerät ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterdesign und Fertigung. Das fortschrittliche optische Design und die benutzerfreundliche Oberfläche ermöglichen eine schnelle, präzise und zuverlässige Fehleranalyse und Maskeninspektion. Die Maschine ist auf eine breite Palette von Nanotech-Anwendungen anwendbar und bietet die höchste Qualität der Bildgebung und hochpräzise Messungen.