Gebraucht HERMES MICROVISION / HMI Epointer #9259976 zu verkaufen

HERMES MICROVISION/HMI Epointer ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage für den Einsatz in Photolithographie- und Nanolithographie-Herstellungsprozessen. Es dient zur genauen und zuverlässigen Inspektion von hochauflösenden Masken und Wafern auf Fehler und Defekte. Das HMI Epointer System verfügt über eine niedrig kohärente Lichtquelle und eine digitale CCD/CMOS Kamera. Dadurch können kontrastreiche und scharfe Fehlerbilder auch im Nanometermaßstab erfasst werden. Die Inspektionseinheit verwendet einen leistungsfähigen optischen Komparator, der in der Lage ist, Bilder verschiedener Masken und Wafer zu montieren, um ihre Merkmale miteinander zu vergleichen. Dies gewährleistet eine Fehlererkennung über alle Bereiche des Substrats, unabhängig von dessen Maßstab oder Struktur. HERMES MICROVISION Epointer Maschine hat auch eine eingebaute automatisierte Fehlerüberprüfung Fähigkeit. Dies reduziert den manuellen Eingriff, reduziert die Inspektionszeit und steigert die Effizienz. Es kann leicht Fehler wie fehlende Bilder oder Linienbreitenfehler mit seinem leistungsfähigen Automatisierungstool erkennen. Diese Inspektionsanlage ist auch so konzipiert, dass sie einfach zu bedienen und zu bedienen ist. Es ist sehr ergonomisch, so dass der Benutzer die Position des Mikroskops optimal an seine Bedürfnisse anpassen kann. Es verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit Einstellungen, die leicht an bestimmte Inspektionsanforderungen angepasst werden können. Epointer-Modell unterstützt sowohl SEMI-E82 als auch SEMI-E87 Standards. Damit eignet es sich für verschiedene Anwendungen der Photolithographie und Nanolithographie. Die Bildverarbeitungstechnologie ermöglicht eine genaue und qualitativ hochwertige Erkennung von Fehlern und Fehlern. Die Ergebnisse werden in mehreren Anzeigemodi mit 2D- und 3D-Bildern angezeigt. Insgesamt macht HERMES MICROVISION/HMI Epointer die Masken- und Waferinspektion einfacher und genauer als je zuvor. Die fortschrittlichen Eigenschaften und das ergonomische Design machen es perfekt für den Einsatz in einer Vielzahl von Photolithographie- und Nanolithographieanwendungen.