Gebraucht HIMS NMI-100 #9234652 zu verkaufen

HIMS NMI-100 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage mit modernster optischer und IT-Technologie. Das System bietet eine hervorragende Sicht auf die gesamte Oberfläche von Masken und Wafern, so dass es Fehler im Nanometermaßstab erkennen kann. NMI-100 verwendet hochauflösende adaptive Optik mit fortschrittlicher Defokus-Messtechnik und einer leistungsstarken Beleuchtungs-Beleuchtungseinheit, um sehr subtile Fehler auch in dichten Bildern zu erkennen. Die einzigartige Kombination aus fortschrittlicher Optik, Bildverarbeitungsalgorithmen und Präzisionsrobotik ist in der Lage, Partikel und Defekte bis zu 1 nm zu erkennen und zu messen. Die Abtastmaschine von HIMS NMI-100 kann mit mehreren Waferstufen konfiguriert werden, was eine Inspektion mit hohem Durchsatz ermöglicht, ohne auf Genauigkeit oder Präzision zu verzichten. Das Werkzeug ist auch mit einer hochpräzisen motorisierten Stufe zur genauen und wiederholbaren Positionierung von Wafern und Masken ausgestattet. Darüber hinaus ist das Asset in der Lage, Bereiche hoher Dichte von Chips mit bis zu Tausenden von Funktionen zu analysieren. NMI-100 verfügt über eine hochoptimierte Stapelverarbeitungsarchitektur, die maximale Genauigkeit und Durchsatz ermöglicht. Die Inspektionsmodule können bis zu 8 Masken und 8 Wafer gleichzeitig scannen, mit einer Unterstützung von bis zu 16 Masken- und 16 Wafer-Chargen, was die Effizienz und Genauigkeit verbessert. Das Modell unterstützt auch zwei parallele Inspektionskanäle für die Inspektion von zwei verschiedenen Produkttypen in einem Lauf. HIMS NMI-100 ist zudem mit einer leistungsstarken Defektklassifizierung ausgestattet, die eine automatische Fehlerabscheidung nach Typ ermöglicht. Das System ist in der Lage, Partikel, isolierte Defekte sowie Fehlerablagerungen zu segmentieren, um eine genaue Analyse des Fehlertyps zu ermöglichen und gleichzeitig die Fehlalarmrate zu reduzieren. NMI-100 ist in der Lage, wiederholbare Fehler zu erkennen und verfügt über robuste Bildverarbeitungsalgorithmen in Verbindung mit Hochdurchsatz-Inspektionsinformationen. Automatische Erkennung und Ablehnung von Fehlalarmstellen und Fehlern ermöglichen es HIMS- NMI-100, Fehler auch in dichten Bildern genau zu erkennen. Zusätzlich kann das Gerät Fehlergrößen bis zu 1 nm erkennen, so dass es auch sehr kleine Mängel erkennen kann. NMI-100 ist ein wertvolles Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion, das eine umfassende Palette an technologischen Fähigkeiten und überlegene Präzision bietet. Der hohe Durchsatz und die genauen Ergebnisse der Maschine machen sie ideal für den Einsatz in Fertigungs- und Testumgebungen.