Gebraucht HIMS NMI-100 #9236870 zu verkaufen

HIMS NMI-100 ist eine technologisch fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es wurde entwickelt, um hochauflösende Inspektionsmöglichkeiten für alle Arten von Halbleiterscheiben bereitzustellen. Mit seiner beeindruckenden Leistung ist es in der Lage, Fehler und Anomalien schnell zu erkennen. NMI-100 verfügt über ein robustes optisches System, das hochgenaue Bilder zur Überprüfung und Analyse bereitstellt. Es verwendet fortschrittliche Optik und Linsen für hohe Vergrößerung und Klarheit. Die optische Einheit umfasst eine hochauflösende CCD-Kamera und eine automatische Fokussiermaschine. Es verfügt auch über ein Trifarbenfilter zum Nachweis von Partikeln und zur genauen Messung der Wafergeometrie. Darüber hinaus verfügt es über eine automatisierte Fehlerkarten-Funktion, um Fehler schnell zu erkennen und zu lokalisieren. HIMS NMI-100 enthält ein Hochgeschwindigkeits-Softwarepaket zur Datenerfassung, -analyse und -berichterstattung. Es unterstützt eine Vielzahl von Bildformaten für eine einfache Integration in andere Systeme. Die Software enthält auch eine Fehlererkennungs-Engine, die verschiedene Arten von Fehlern identifizieren und klassifizieren kann. Die Software liefert detaillierte Informationen über jeden Defekt und Warnungsoperatoren, falls erforderlich. NMI-100 ist auch mit einem leistungsfähigen Computer-Tool für die Echtzeit-Datenerfassung und -verarbeitung ausgestattet. Es enthält dedizierten Speicher und Prozessor für schnelle Bildverarbeitung und verbesserte Automatisierung. Das Asset ist auch in der Lage, mehrere Roboter für mehr Effizienz und Genauigkeit zu steuern. Darüber hinaus kann es so eingerichtet werden, dass es eine größere Datenbank von Inspektionsbildern und Rezepten für konsistente Ergebnisse enthält. HIMS NMI-100 ist robust und einfach zu bedienen. Es ist einfach einzurichten und zu bedienen und erfordert eine minimale Wartung. Mit seinen fortschrittlichen optischen und Computersystemen kann es zuverlässige Ergebnisse liefern und mit schnellen Änderungen in der Technologie Schritt halten. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für die Masken- und Waferinspektion und bietet eine schnelle und effiziente Möglichkeit, Auffälligkeiten zu erkennen.